堀研博士論文
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開始行:
[[Memorandum]]
**2024 Autumn
-NGO Quang Minh
--Study on synthesis and properties of carbon nanowalls w...
--カーボンナノウォール構造の撥水性を促進する高度合成制御...
---主査:石川 健治
-Manabu Kyuzo 久蔵 学
--プラズマ発光の多視点画像によるプラズマ3次元構造のモニタ...
---主査:豊田 浩孝
**2024 Spring
-OSONIO Airah Peraro
--Study on atomic layer etching of silicon dioxide via su...
---主査:石川 健治
-Souichi Kuboi 久保井 宗一
--二周波重畳容量結合型フルオロカーボンプラズマ中のイオン...
--Study on the ion behavior analysis and silicon dielectr...
---主査:豊田 浩孝
-Yuki Imai 今井 友貴
--Si系量子ドットの配列制御と局所耐電特性に関する研究
--Study on alignment control of Si-based quantum dots and...
---主査:宮﨑 誠一
**2023 Spring
-Naoyuki Iwata 岩田直幸
--Study on bactericidal effect of tryptophan solution irr...
---主査:堀 勝
-Yang Liu 劉洋
--プラズマ活性化乳酸リンゲル液(PAL)中の反応メカニズム解...
---主査:堀 勝
-夏目祥揮
--ダイバータプラズマ物性理解のための計測・解析技術の高度...
--主査: 大野 哲靖
**2022 Autumn
-Tomonori Ichikawa 市川知範 (JAXA)
--Study on the application of carbon nanowalls for cultur...
---主査:堀 勝
**2022 Spring
-大森 達夫 (三菱電機)
--低気圧・高密度プラズマエッチング現象の解明とその高性能...
---主査:堀 勝
**2021 Autumn
-Quan Shi
--Role of impurity deposition in the formation of silicon...
--主査: 大野 哲靖
**2021 Spring
-今村翼 (Kioxia -> Hitachi)
--先端LSI製造プロセスに置けるO2,CO2およびCOプラズマを利...
-Shuangyuan FENG 馮双園
--Photocatalytic application of helium plasma induced nan...
--主査: 大野哲靖
**2020 Autumn
-Yosuke Sato 佐藤陽介 (Toshiba)
--Study on low-temperature atmospheric pressure plasma to...
-Yoichiro Sato 佐藤陽一郎 (AGC)
--レーザーによるガラス貫通電極の形成とその応用に関する研究
-Mitsuhiro Omura 大村光広 (Kioxia)
--3次元メモリデバイス製造における絶縁膜のドライエッチング...
-Toshiyuki Sasaki 佐々木俊行 (Kioxia)
--先端LSI製造プロセスにおける塩素含有プラズマ及びフルオロ...
**2020 Spring
-Atsushi Tanide 谷出敦 (Screen Holdings)
--GaNの新しいプラズマ成膜及びエッチングに関する研究
--Study on new plasma processes for growth and etching of...
-Hiroyuki Fukumizu 福水裕之 (Kioxia)
--アルミニウム化合物を用いた半導体デバイス製造における原...
--Study on atomic layer process of Aluminum compounds for...
**2019 Autumn
-Kazunori Shinoda 篠田和典 (Hitachi)
--高精度等方性エッチングとその半導体デバイス製造への応用...
--Studies on precisely controlled isotropic etching and i...
-Yasuhiro Isobe 磯部康裕 (Toshiba)
--窒化物半導体パワーデバイスの高性能化とプラズマによる低...
--Study on Performance Enhancement of GaN Power Devices a...
-Woo Young Lee
--Tribological properties and mechanisms of ta-C coatings...
--主査: 梅原徳次
**2019 Spring
-Hideshi Miyajima 宮島秀史 ((Toshiba memory)現 Kioxia)
--ロジックデバイスにおける低誘電率層間絶縁膜形成プロセス...
--Study on process engineering of low-k inter-layer-diele...
-Naoto Kihara 木原直人 (AGC)
--新規ヘルスケアデバイスのためのプラズマプロセス
--Plasma processes for the healthcare devices
-Yusuke Fukunaga 福永裕介 (TEL宮城 就職)
--有機物のプラズマエッチングにおける表面反応とエッチング...
--Study on Etched Profile Control and the Surface Reactio...
-Ranjit Borude (名大 就職→ASM Japan)
--錫と炭素のナノ複合材料の合成プロセスと特性評価に関する...
--Synthesis and modification of carbon nanocomposite empl...
-Shun Imai 今井駿 (JAXA 就職)
--カーボンナノウォール複合材料の電気化学特性および燃料電...
--Study on electrochemical characteristics of carbon nano...
-Hirotsugu Sugiura 杉浦啓嗣 (ASM Japan 就職)
--低温プラズマの内部パラメータによるアモルファスカーボン...
--Control of Properties of Amorphous Carbon Thin Films by...
-Masakazu Tomatsu 東松真和
--プラズマプロセスにより合成したカーボンナノウォールの表...
--Study of electrochemical surface reactions on carbon n...
**2018 Autumn
-Nobuyuki Negishi 根岸伸幸(Hitachi)
--大規模集積回路プラズマプロセスにおける微細パターン形状...
--Study on control of fine patterning in ULSI plasma proc...
-Itsuko Sakai 酒井伊都子((Toshiba)現 Kioxia)
--超大規模集積回路製造用プラズマエッチングにおける加工形...
--Study on control of etch profile in plasma etching for ...
**2018 Spring
-Atsushi Ando 安藤睦(東ソークォーツ 就職)
--高密度プラズマプロセス中におけるカーボンナノ材料合成に...
--Study on synthesis of carbon-nanomaterials in high-dens...
-Yan Zhang 張彦(チョウ)(ASM Japan 就職)
--大規模集積回路製造プロセスにおけるプラズマ誘起ダメージ...
--Measurements and analysis of plasma induced damages on ...
-Tomoki Amano 天野智貴(Panasonic 就職)
--液中プラズマを用いたカーボンナノ材料の合成と燃料電池応用
--Synthesis of carbon nanomaterials by using in-liquid pl...
-Yohei Takahashi 髙橋洋平(Nikon)
--大気圧マイクロ波励起プラズマを用いた癌細胞選択的抗腫瘍...
--Study on selective antitumor effect by atmospheric micr...
-Kensuke Sasai 笹井建典(Sumitomo)
--Study on production of high density microwave plasma wi...
---主査: 豊田浩孝
**2017 Spring
-Zecheng Liu 劉沢鋮セイ(リュウ)(ASM Japan 就職)
--次世代パワーデバイスにおける窒化ガリウムの低ダメージ加...
--Study on plasma etching of GaN at high-temperature for ...
-Naoyuki Kurake 倉家尚之(デンソー 就職)
--非平衡大気圧プラズマ照射培養液内における 生体および化学...
--Study on biomedical and chemical reactions in culture m...
**2016 Autumn
-Yoshinobu Ohya 大矢欣伸(TEL宮城)
--半導体エッチング装置における高周波と直流の重畳印加によ...
--Study on Characteristics of Fluorocarbon Gas Plasma wit...
**2016 Spring
-Lingyn Jia 賈凌雲(ジャ) (ASM Japan 就職→Air Liquide)
--プラズマ化学気相堆積法における水素化アモルファスカーボ...
--Study on structural control of hydrogenated amorphous c...
**2015 Spring
-Yusuke Kondo 近藤祐介(東芝就職)
--ガスデザインによるフルオロカーボンプラズマ中の活性種及...
--Studies on control of active species and design of gas ...
-Takayoshi Tsutsumi 堤隆嘉(現名古屋大)
--周波数領域型低コヒーレンス干渉を用いた基板温度制御によ...
--Study on atomic-scale plasma process based on substrate...
**2014 Spring
-Toshiya Suzuki 鈴木俊哉 (ASM Japan 就職)
--ナノメータ精度加工に向けた自律制御プラズマエッチングプ...
--Studies on Plasma Etching Process Based on Autonomous C...
-Hironao Shimoeda 下枝弘尚 (現JST)
--ラジカルとの表面反応によるカーボンナノウォールの構造制...
--Study on structural control of carbon nanowalls by surf...
-Lu Yi 盧翌(ロ)(現名古屋大→東芝)
--次世代窒化ガリウム系デバイスのためのプラズマ励起有機金...
--Study on plasma-enhanced metal-organic chemical vapor d...
-Hyung Jun Cho 趙亨峻(チョウ) (現名古屋大→東芝)
--電子デバイス応用に向けたカーボンナノウォールのエッジ処...
--Edge termination effects on electrical characteristics ...
-林和夫
--中・高気圧放電の基礎と応用機器の性能向上に関する研究
**2013 Spring
-Yusuke Abe 阿部祐介 (現東工大→産総研→カネカ)
--プラズマ化学気相堆積法を用いたシリコン薄膜の作製および...
--Studies on fabrication of silicon thin films using plas...
-Takuya Takeuchi 竹内拓也 (イビデン就職)
--反応性ビーム照射を用いたプラズマエッチングプロセス中の...
--Studies on reaction kinetics of photoresist for plasma ...
-Yudai Miyawaki 宮脇雄大 (名古屋大→EVG)
--次世代ULSI製造プロセスにおける新規フルオロカーボンガス...
--Study on highly selective dielectric film etching using...
-Hitoshi Watanabe 渡邊均 (アイシン精機就職)
--バイオナノ応用に向けたカーボンナノウォールの表面機能化...
--Studies on surface functionalization of carbon nanowall...
-Takehiro Hiraoka 平岡丈弘 (富士機械製造就職)
--超短パルスレーザー技術を用いた材料プロセスに向けた実時...
--Studies on real-time and high sensitive monitoring meth...
**2012 Autumn
-Shang Chen 陳尚(チン) (ASM Japan就職)
--窒化ガリウムの成長及び不活性化における原子状ラジカルの...
--Studies on the effects of radicals on growth and passiv...
-Yoshiyuki Iwata 岩田義幸 (イビデン)
--高密度プリント配線板技術のための非平衡大気圧プラズマの...
**2012 Spring
-Hiroshi Yamamoto 山本洋 (東芝→ナインシグマ)
--低誘電率材料の微細パターン制御および低ダメージプラズマ...
--Studies on plasma etching process of low dielectrics fo...
-Arkadiusz Malinowski (Global foundries就職)
--ラジカル表面反応解析技術の開発と先進CMOS形状シミュレー...
--Study of radical kinetic behavior investigation techniq...
-Masanaga Fukasawa 深沢正永 (ソニー)
--大規模集積回路における水素に起因したプラズマ誘起ダメー...
-Hideo Tsuboi 坪井秀夫 (アルバック)
--磁気中性線放電プラズマの生成・制御と微細加工への応用に...
**2011 Autumn
-Kei Hattori 服部圭 (東芝)
--半導体デバイス製造における高精度Al合金エッチングとその...
**2011 Spring
-Hirotoshi Inui 乾裕俊 (ゼオン就職)
--高密度大気圧非平衡プラズマを用いた表面処理に関する研究
--Studies on surface treatments using nonequilibrium high...
-Tsuyoshi Yamaguchi 山口剛 (イビデン就職)
--反応性プラズマの新プロセス技術と気相診断のための先進レ...
--Advanced laser applications for new process technologie...
-Toshitsugu Takahasi 高橋俊次 (片桐エンジ)
--将来の超大規模集積回路製造における絶縁膜のための環境調...
**2010 Spring
-Saburo Uchida 内田三郎
--大規模集積回路プロセスにおける低誘電率膜のエッチング基...
--Studies on fundamental etching reactions of low dielect...
-Chang Sung Moon 文昶盛(ムン) (Samsung就職)
--マイクロエレクトロニクス製造におけるエッチング及び成膜...
--Studies on advanced plasma processing for etching and d...
-Shingo Kondo 近藤真吾 (デンソー就職)
--プラズマ化学気相堆積法により形成されたカーボンナノウォ...
--Studies on growth mechanism of carbon nanowalls formed ...
-Masaru Izawa 伊澤勝 (日立ハイテク)
--プラズマエッチングにおける加工形状制御メカニズムの研究
**2009 Spring
-Wakana Takeuchi 竹内和歌奈 (名古屋大学就職→愛工大准教授)
--プラズマCVDを用いたカーボンナノウォールの作製及びそれら...
--Study on synthesis of carbon nanowalls using plasma enh...
**2008 Autumn
-伊藤治彦
--低圧誘導結合型プラズマを用いたダイヤモンド形成と炭素原...
--Study on diamond formation and behaviors of carbon atom...
-Tokuhisa Oiwa 大岩徳久 (東芝→東京エレクトロン)
--超大規模集積回路製造における絶縁膜のプラズマエッチング...
**2008 Spring
-Masahiro Iwasaki 岩崎正博 (トヨタ就職)
--非平衡大気圧リモートプラズマを用いたエッチングと表面改...
--Studies on etching and surface modification processing ...
-Yasuhiro Hara 原安寛 (現 産総研)
--低エネルギービーム源の開発とダメージレス表面改質プロセ...
**2007 Spring
-Keigo Takeda 竹田圭吾 (名古屋大学就職→名城大准教授)
--反応性プラズマ中の活性種の診断およびナノ・マイクロ加工...
--Studies on diagnostics of activated species in reactive...
-Tomohiro Okumura 奥村智洋(パナソニック)
--高密度プラズマ源の開発とエッチングプロセスへの応用に関...
**2006 Spring
-Mikio Nagai 永井幹雄 (後藤(中部大),堀研,菅井,伊藤(和...
--プラズマ診断に基づいた環境調和型エッチングプロセスに関...
--Studies on environmentally harmonic etching process bas...
**2005 Autumn
-Kazuyasu Nishikawa 西川和康
--低圧・高密度プラズマによるULSIエッチング技術の一研究
--A study of ULSI etching technology using low-pressure h...
**2005 Spring
-Koji Yamakawa 山川晃司(片桐エンジ)
--マイクロ波励起非平衡大気圧プラズマ源の開発と材料プロセ...
--Studies on development of microwave excited non-equilib...
**2004 Spring
-Takayuki Ohta 太田貴之 (後藤研,河野(教授),堀,伊藤(和...
--VHF容量結合プラズマ中の中性ラジカルにおける励起周波数の...
--Studies on effect of excitation frequency on neutral ra...
**2003 Spring
-Hisao Nagai 永井久雄 (松下就職)
--高密度プラズマを用いた低誘電率膜プロセスに関する研究
--Studies on low dielectric film process using high-densi...
-Chiharu Takahashi 高橋千春(NTT)
--電子および光に関する先端的デバイス作製における電子サイ...
**2002 Spring
-Kazushi Fujita 藤田和司(富士通就職)
--Studies on plasma process employing environmentally ben...
**2001 Spring
-Seigou Takashima 高島成剛(当時日本レーザー→PLACIA)
--Studies on Development of Measurement Technique of Abso...
-村田和哉
--高密度シラン・水素プラズマによる微結晶シリコン薄膜の成...
--Studies on Microcrystalline Silicon Film Growth in High...
-大田裕之
--PECVD法による高誘電率ゲート絶縁膜用極薄シリコン窒化膜形...
--Studies on Ultrathin Silicon Nitride Film Formation for...
**1997 Spring
-池田雅延
--ラジカル注入法を用いたプラズマ中のラジカル制御とダイヤ...
-- Studies on control of radicals in plasma and synthesis...
**1995 Spring
-西沢典彦
--ファイバループミラーを用いた直交位相振幅スクイズド光の...
--Studies on generation and characterization of quadratur...
**1992 Spring
-伊藤昌文
--レーザー近接距離センサを用いた基準位置計測法に関する研究
-板橋直志
--赤外半導体レーザー吸収分光法を用いたシラングロー放電プ...
--Studies of the SiH[x] radicals in a silane glow-dischar...
**1987 Spring
-平松美根男
--希ガス混合希釈を用いた横方向放電励起XeClエキシマレーザ...
--Studies on the transverse discharge-pumped XeCl excimer...
**1986 Spring
-堀勝
--X線リソグラフィにおけるプラズマプロセスに関する研究
--Studies on plasma processes for X-ray lithography
終了行:
[[Memorandum]]
**2024 Autumn
-NGO Quang Minh
--Study on synthesis and properties of carbon nanowalls w...
--カーボンナノウォール構造の撥水性を促進する高度合成制御...
---主査:石川 健治
-Manabu Kyuzo 久蔵 学
--プラズマ発光の多視点画像によるプラズマ3次元構造のモニタ...
---主査:豊田 浩孝
**2024 Spring
-OSONIO Airah Peraro
--Study on atomic layer etching of silicon dioxide via su...
---主査:石川 健治
-Souichi Kuboi 久保井 宗一
--二周波重畳容量結合型フルオロカーボンプラズマ中のイオン...
--Study on the ion behavior analysis and silicon dielectr...
---主査:豊田 浩孝
-Yuki Imai 今井 友貴
--Si系量子ドットの配列制御と局所耐電特性に関する研究
--Study on alignment control of Si-based quantum dots and...
---主査:宮﨑 誠一
**2023 Spring
-Naoyuki Iwata 岩田直幸
--Study on bactericidal effect of tryptophan solution irr...
---主査:堀 勝
-Yang Liu 劉洋
--プラズマ活性化乳酸リンゲル液(PAL)中の反応メカニズム解...
---主査:堀 勝
-夏目祥揮
--ダイバータプラズマ物性理解のための計測・解析技術の高度...
--主査: 大野 哲靖
**2022 Autumn
-Tomonori Ichikawa 市川知範 (JAXA)
--Study on the application of carbon nanowalls for cultur...
---主査:堀 勝
**2022 Spring
-大森 達夫 (三菱電機)
--低気圧・高密度プラズマエッチング現象の解明とその高性能...
---主査:堀 勝
**2021 Autumn
-Quan Shi
--Role of impurity deposition in the formation of silicon...
--主査: 大野 哲靖
**2021 Spring
-今村翼 (Kioxia -> Hitachi)
--先端LSI製造プロセスに置けるO2,CO2およびCOプラズマを利...
-Shuangyuan FENG 馮双園
--Photocatalytic application of helium plasma induced nan...
--主査: 大野哲靖
**2020 Autumn
-Yosuke Sato 佐藤陽介 (Toshiba)
--Study on low-temperature atmospheric pressure plasma to...
-Yoichiro Sato 佐藤陽一郎 (AGC)
--レーザーによるガラス貫通電極の形成とその応用に関する研究
-Mitsuhiro Omura 大村光広 (Kioxia)
--3次元メモリデバイス製造における絶縁膜のドライエッチング...
-Toshiyuki Sasaki 佐々木俊行 (Kioxia)
--先端LSI製造プロセスにおける塩素含有プラズマ及びフルオロ...
**2020 Spring
-Atsushi Tanide 谷出敦 (Screen Holdings)
--GaNの新しいプラズマ成膜及びエッチングに関する研究
--Study on new plasma processes for growth and etching of...
-Hiroyuki Fukumizu 福水裕之 (Kioxia)
--アルミニウム化合物を用いた半導体デバイス製造における原...
--Study on atomic layer process of Aluminum compounds for...
**2019 Autumn
-Kazunori Shinoda 篠田和典 (Hitachi)
--高精度等方性エッチングとその半導体デバイス製造への応用...
--Studies on precisely controlled isotropic etching and i...
-Yasuhiro Isobe 磯部康裕 (Toshiba)
--窒化物半導体パワーデバイスの高性能化とプラズマによる低...
--Study on Performance Enhancement of GaN Power Devices a...
-Woo Young Lee
--Tribological properties and mechanisms of ta-C coatings...
--主査: 梅原徳次
**2019 Spring
-Hideshi Miyajima 宮島秀史 ((Toshiba memory)現 Kioxia)
--ロジックデバイスにおける低誘電率層間絶縁膜形成プロセス...
--Study on process engineering of low-k inter-layer-diele...
-Naoto Kihara 木原直人 (AGC)
--新規ヘルスケアデバイスのためのプラズマプロセス
--Plasma processes for the healthcare devices
-Yusuke Fukunaga 福永裕介 (TEL宮城 就職)
--有機物のプラズマエッチングにおける表面反応とエッチング...
--Study on Etched Profile Control and the Surface Reactio...
-Ranjit Borude (名大 就職→ASM Japan)
--錫と炭素のナノ複合材料の合成プロセスと特性評価に関する...
--Synthesis and modification of carbon nanocomposite empl...
-Shun Imai 今井駿 (JAXA 就職)
--カーボンナノウォール複合材料の電気化学特性および燃料電...
--Study on electrochemical characteristics of carbon nano...
-Hirotsugu Sugiura 杉浦啓嗣 (ASM Japan 就職)
--低温プラズマの内部パラメータによるアモルファスカーボン...
--Control of Properties of Amorphous Carbon Thin Films by...
-Masakazu Tomatsu 東松真和
--プラズマプロセスにより合成したカーボンナノウォールの表...
--Study of electrochemical surface reactions on carbon n...
**2018 Autumn
-Nobuyuki Negishi 根岸伸幸(Hitachi)
--大規模集積回路プラズマプロセスにおける微細パターン形状...
--Study on control of fine patterning in ULSI plasma proc...
-Itsuko Sakai 酒井伊都子((Toshiba)現 Kioxia)
--超大規模集積回路製造用プラズマエッチングにおける加工形...
--Study on control of etch profile in plasma etching for ...
**2018 Spring
-Atsushi Ando 安藤睦(東ソークォーツ 就職)
--高密度プラズマプロセス中におけるカーボンナノ材料合成に...
--Study on synthesis of carbon-nanomaterials in high-dens...
-Yan Zhang 張彦(チョウ)(ASM Japan 就職)
--大規模集積回路製造プロセスにおけるプラズマ誘起ダメージ...
--Measurements and analysis of plasma induced damages on ...
-Tomoki Amano 天野智貴(Panasonic 就職)
--液中プラズマを用いたカーボンナノ材料の合成と燃料電池応用
--Synthesis of carbon nanomaterials by using in-liquid pl...
-Yohei Takahashi 髙橋洋平(Nikon)
--大気圧マイクロ波励起プラズマを用いた癌細胞選択的抗腫瘍...
--Study on selective antitumor effect by atmospheric micr...
-Kensuke Sasai 笹井建典(Sumitomo)
--Study on production of high density microwave plasma wi...
---主査: 豊田浩孝
**2017 Spring
-Zecheng Liu 劉沢鋮セイ(リュウ)(ASM Japan 就職)
--次世代パワーデバイスにおける窒化ガリウムの低ダメージ加...
--Study on plasma etching of GaN at high-temperature for ...
-Naoyuki Kurake 倉家尚之(デンソー 就職)
--非平衡大気圧プラズマ照射培養液内における 生体および化学...
--Study on biomedical and chemical reactions in culture m...
**2016 Autumn
-Yoshinobu Ohya 大矢欣伸(TEL宮城)
--半導体エッチング装置における高周波と直流の重畳印加によ...
--Study on Characteristics of Fluorocarbon Gas Plasma wit...
**2016 Spring
-Lingyn Jia 賈凌雲(ジャ) (ASM Japan 就職→Air Liquide)
--プラズマ化学気相堆積法における水素化アモルファスカーボ...
--Study on structural control of hydrogenated amorphous c...
**2015 Spring
-Yusuke Kondo 近藤祐介(東芝就職)
--ガスデザインによるフルオロカーボンプラズマ中の活性種及...
--Studies on control of active species and design of gas ...
-Takayoshi Tsutsumi 堤隆嘉(現名古屋大)
--周波数領域型低コヒーレンス干渉を用いた基板温度制御によ...
--Study on atomic-scale plasma process based on substrate...
**2014 Spring
-Toshiya Suzuki 鈴木俊哉 (ASM Japan 就職)
--ナノメータ精度加工に向けた自律制御プラズマエッチングプ...
--Studies on Plasma Etching Process Based on Autonomous C...
-Hironao Shimoeda 下枝弘尚 (現JST)
--ラジカルとの表面反応によるカーボンナノウォールの構造制...
--Study on structural control of carbon nanowalls by surf...
-Lu Yi 盧翌(ロ)(現名古屋大→東芝)
--次世代窒化ガリウム系デバイスのためのプラズマ励起有機金...
--Study on plasma-enhanced metal-organic chemical vapor d...
-Hyung Jun Cho 趙亨峻(チョウ) (現名古屋大→東芝)
--電子デバイス応用に向けたカーボンナノウォールのエッジ処...
--Edge termination effects on electrical characteristics ...
-林和夫
--中・高気圧放電の基礎と応用機器の性能向上に関する研究
**2013 Spring
-Yusuke Abe 阿部祐介 (現東工大→産総研→カネカ)
--プラズマ化学気相堆積法を用いたシリコン薄膜の作製および...
--Studies on fabrication of silicon thin films using plas...
-Takuya Takeuchi 竹内拓也 (イビデン就職)
--反応性ビーム照射を用いたプラズマエッチングプロセス中の...
--Studies on reaction kinetics of photoresist for plasma ...
-Yudai Miyawaki 宮脇雄大 (名古屋大→EVG)
--次世代ULSI製造プロセスにおける新規フルオロカーボンガス...
--Study on highly selective dielectric film etching using...
-Hitoshi Watanabe 渡邊均 (アイシン精機就職)
--バイオナノ応用に向けたカーボンナノウォールの表面機能化...
--Studies on surface functionalization of carbon nanowall...
-Takehiro Hiraoka 平岡丈弘 (富士機械製造就職)
--超短パルスレーザー技術を用いた材料プロセスに向けた実時...
--Studies on real-time and high sensitive monitoring meth...
**2012 Autumn
-Shang Chen 陳尚(チン) (ASM Japan就職)
--窒化ガリウムの成長及び不活性化における原子状ラジカルの...
--Studies on the effects of radicals on growth and passiv...
-Yoshiyuki Iwata 岩田義幸 (イビデン)
--高密度プリント配線板技術のための非平衡大気圧プラズマの...
**2012 Spring
-Hiroshi Yamamoto 山本洋 (東芝→ナインシグマ)
--低誘電率材料の微細パターン制御および低ダメージプラズマ...
--Studies on plasma etching process of low dielectrics fo...
-Arkadiusz Malinowski (Global foundries就職)
--ラジカル表面反応解析技術の開発と先進CMOS形状シミュレー...
--Study of radical kinetic behavior investigation techniq...
-Masanaga Fukasawa 深沢正永 (ソニー)
--大規模集積回路における水素に起因したプラズマ誘起ダメー...
-Hideo Tsuboi 坪井秀夫 (アルバック)
--磁気中性線放電プラズマの生成・制御と微細加工への応用に...
**2011 Autumn
-Kei Hattori 服部圭 (東芝)
--半導体デバイス製造における高精度Al合金エッチングとその...
**2011 Spring
-Hirotoshi Inui 乾裕俊 (ゼオン就職)
--高密度大気圧非平衡プラズマを用いた表面処理に関する研究
--Studies on surface treatments using nonequilibrium high...
-Tsuyoshi Yamaguchi 山口剛 (イビデン就職)
--反応性プラズマの新プロセス技術と気相診断のための先進レ...
--Advanced laser applications for new process technologie...
-Toshitsugu Takahasi 高橋俊次 (片桐エンジ)
--将来の超大規模集積回路製造における絶縁膜のための環境調...
**2010 Spring
-Saburo Uchida 内田三郎
--大規模集積回路プロセスにおける低誘電率膜のエッチング基...
--Studies on fundamental etching reactions of low dielect...
-Chang Sung Moon 文昶盛(ムン) (Samsung就職)
--マイクロエレクトロニクス製造におけるエッチング及び成膜...
--Studies on advanced plasma processing for etching and d...
-Shingo Kondo 近藤真吾 (デンソー就職)
--プラズマ化学気相堆積法により形成されたカーボンナノウォ...
--Studies on growth mechanism of carbon nanowalls formed ...
-Masaru Izawa 伊澤勝 (日立ハイテク)
--プラズマエッチングにおける加工形状制御メカニズムの研究
**2009 Spring
-Wakana Takeuchi 竹内和歌奈 (名古屋大学就職→愛工大准教授)
--プラズマCVDを用いたカーボンナノウォールの作製及びそれら...
--Study on synthesis of carbon nanowalls using plasma enh...
**2008 Autumn
-伊藤治彦
--低圧誘導結合型プラズマを用いたダイヤモンド形成と炭素原...
--Study on diamond formation and behaviors of carbon atom...
-Tokuhisa Oiwa 大岩徳久 (東芝→東京エレクトロン)
--超大規模集積回路製造における絶縁膜のプラズマエッチング...
**2008 Spring
-Masahiro Iwasaki 岩崎正博 (トヨタ就職)
--非平衡大気圧リモートプラズマを用いたエッチングと表面改...
--Studies on etching and surface modification processing ...
-Yasuhiro Hara 原安寛 (現 産総研)
--低エネルギービーム源の開発とダメージレス表面改質プロセ...
**2007 Spring
-Keigo Takeda 竹田圭吾 (名古屋大学就職→名城大准教授)
--反応性プラズマ中の活性種の診断およびナノ・マイクロ加工...
--Studies on diagnostics of activated species in reactive...
-Tomohiro Okumura 奥村智洋(パナソニック)
--高密度プラズマ源の開発とエッチングプロセスへの応用に関...
**2006 Spring
-Mikio Nagai 永井幹雄 (後藤(中部大),堀研,菅井,伊藤(和...
--プラズマ診断に基づいた環境調和型エッチングプロセスに関...
--Studies on environmentally harmonic etching process bas...
**2005 Autumn
-Kazuyasu Nishikawa 西川和康
--低圧・高密度プラズマによるULSIエッチング技術の一研究
--A study of ULSI etching technology using low-pressure h...
**2005 Spring
-Koji Yamakawa 山川晃司(片桐エンジ)
--マイクロ波励起非平衡大気圧プラズマ源の開発と材料プロセ...
--Studies on development of microwave excited non-equilib...
**2004 Spring
-Takayuki Ohta 太田貴之 (後藤研,河野(教授),堀,伊藤(和...
--VHF容量結合プラズマ中の中性ラジカルにおける励起周波数の...
--Studies on effect of excitation frequency on neutral ra...
**2003 Spring
-Hisao Nagai 永井久雄 (松下就職)
--高密度プラズマを用いた低誘電率膜プロセスに関する研究
--Studies on low dielectric film process using high-densi...
-Chiharu Takahashi 高橋千春(NTT)
--電子および光に関する先端的デバイス作製における電子サイ...
**2002 Spring
-Kazushi Fujita 藤田和司(富士通就職)
--Studies on plasma process employing environmentally ben...
**2001 Spring
-Seigou Takashima 高島成剛(当時日本レーザー→PLACIA)
--Studies on Development of Measurement Technique of Abso...
-村田和哉
--高密度シラン・水素プラズマによる微結晶シリコン薄膜の成...
--Studies on Microcrystalline Silicon Film Growth in High...
-大田裕之
--PECVD法による高誘電率ゲート絶縁膜用極薄シリコン窒化膜形...
--Studies on Ultrathin Silicon Nitride Film Formation for...
**1997 Spring
-池田雅延
--ラジカル注入法を用いたプラズマ中のラジカル制御とダイヤ...
-- Studies on control of radicals in plasma and synthesis...
**1995 Spring
-西沢典彦
--ファイバループミラーを用いた直交位相振幅スクイズド光の...
--Studies on generation and characterization of quadratur...
**1992 Spring
-伊藤昌文
--レーザー近接距離センサを用いた基準位置計測法に関する研究
-板橋直志
--赤外半導体レーザー吸収分光法を用いたシラングロー放電プ...
--Studies of the SiH[x] radicals in a silane glow-dischar...
**1987 Spring
-平松美根男
--希ガス混合希釈を用いた横方向放電励起XeClエキシマレーザ...
--Studies on the transverse discharge-pumped XeCl excimer...
**1986 Spring
-堀勝
--X線リソグラフィにおけるプラズマプロセスに関する研究
--Studies on plasma processes for X-ray lithography
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