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[[FrontPage]] *特許　 米国 14 件,　韓国・台湾・中国 16 件,　日本 68 件 (2026.7) *米国特許 -1. 特許（米国）・US 5,595,916号 (1997/1/21) 出願 US 08/2... --Silicon oxide film evaluation method ---Shuzo Fujimura, Hiroki Ogawa, ''Kenji Ishikawa'', and ... -2. 特許（米国）・US7,612,400号 (2009/11/3) 公開 US 20080... --MIM device and electronic apparatus ---Teruo Kurahashi, Hideharu Shido, ''Kenji Ishikawa'', T... -3. 特許（米国）・US7,679,144号 (2010/3/16) 公開 US 20080... --Semiconductor device and method for manufacturing the s... ---Hiroshi Kudo, and ''Kenji Ishikawa'' -4. 特許（米国）・US7,709,394号 (2010/5/4) 公開 US 200702... --Substrate processing method and apparatus, fabrication ... ---Hidenori Miyoshi, ''Kenji Ishikawa'', Yukio Takigawa, ... -5. 特許（米国）・US7,968,466号 (2011/6/28) 公開 US 20080... --Fabrication process of a semiconductor device ---''Kenji Ishikawa'', Hideharu Shido, Takeo Nagata, Teru... -6. 特許（米国）・US9,773,667号 (2017/9/26) 公開 US 20150... --Apparatus and method for producing group III nitride se... ---Masaru Hori, Hiroki Kondo, ''Kenji Ishikawa'', Osamu Oda -7. 特許（米国）・US10,325,781号 (2019/6/18) 公開 US 2018... --Etching method and etching apparatus ---Kazunori Shinoda, Satoshi Sakai, Masaru Izawa, Nobuya ... -8. 特許（米国）・US10,418,254号 (2019/9/17) 公開 US 2019... --Etching method and etching apparatus ---Kazunori Shinoda, Naoyuki Kofuji, Hiroyuki Kobayashi, ... -9. 特許（米国）・US10,481,169号 (2019/11/19) 公開 US 201... --Diagnostic method and biomarker for lifestyle disease ---Koji Uchida, Takahiro Shibata, ''Kenji Ishikawa'', Oi ... -10. 特許（米国）・US11,261,091号 (2022/3/1) 公開 US 2021... --Carbon nanosheet and manufacturing method therefor ---Masaru Hori, Hiroki Kondo, ''Kenji Ishikawa'' -11. 特許（米国）・US12,237,174号 (2025/2/25) PCT/JP2021/... --Etching method ---Kazunori Shinoda, Hirotaka Hamamura, Kenji Maeda, Kene... -12. 特許（米国）・US12,444,618号 (2025/10/14) PCT/JP2021... --Etching method and etching apparatus ---Thi-Thuy-Nga Nguyen, ''Kenji Ishikawa'', Masaru Hori, ... -13. 特許（米国）・US12,518,975号 (2026/1/6) PCT/JP2022/0... --Etching method ---Thi-Thuy-Nga Nguyen, ''Kenji Ishikawa'', Masaru Hori, ... -14. 特許（米国）・US12,652,977号 (2026/6/9) PCT/JP2022/0... --Etching method ---Kazunori Shinoda, Hirotaka Hamamura, Kenji Maeda, Kene... *その他海外特許 -1. 特許（韓国）・KR100847917B1 (2008/7/22) KR10200700299... --Substrate processing method and apparatus, fabrication ... ---Hidenori Miyoshi, ''Kenji Ishikawa'', Yukio Takigawa, ... -2. 特許（台湾）・TW200741969A (2007/11/1) TW096109573A ... --Substrate processing method and apparatus, fabrication ... ---Hidenori Miyoshi, ''Kenji Ishikawa'', Yukio Takigawa, ... -3. 特許（韓国）・KR100915360B1 (2009/9/3) KR10200701222... --Fabrication process of a semiconductor device ---''Kenji Ishikawa'', Hideharu Shido, Takeo Nagata, Teru... -4. 特許（韓国）・KR100944192B1 (2009/2/26) KR10200701218... --MIM device and electronic apparatus ---Teruo Kurahashi, Hideharu Shido, ''Kenji Ishikawa'', T... -5. 特許（台湾）・TWI648786B (2019/1/21) TW106129551A (20... --Etching method and etching apparatus ---Kazunori Shinoda, Satoshi Sakai, Masaru Izawa, Nobuya ... -6. 特許（韓国）・KR102027195B1 (2019/10/1) KR10201701091... --Etching method and etching apparatus ---Kazunori Shinoda, Satoshi Sakai, Masaru Izawa, Nobuya ... -7. 特許（台湾）・TWI661484B (2019/6/1) TW107106284A (201... --Etching method and etching apparatus ---Kazunori Shinoda, Naoyuki Kofuji, Hiroyuki Kobayashi, ... -8. 特許（韓国）・KR102102264B1 (2020/4/21) KR1020180019... --Etching method and etching apparatus ---Kazunori Shinoda, Naoyuki Kofuji, Hiroyuki Kobayashi, ... -9. 特許（韓国）・KR102330144B1 (2021/11/22) KR2015005802... --Apparatus and method for producing group III nitride se... ---Masaru Hori, Hiroki Kondo, ''Kenji Ishikawa'', Osamu Oda -10. 特許（台湾）・TWI812063B (2023/8/11) TW111109154A (2... --Etching method ---Kazunori Shinoda, Hirotaka Hamamura, Kenji Maeda, Kene... -11. 特許（台湾）・TWI857522B (2024/10/1) TW112109379A (2... --Etching method ---Thi-Thuy-Nga Nguyen, ''Kenji Ishikawa'', Masaru Hori, ... -12. 特許（台湾）・TWI861545B (2024/11/11) TW111130566A (... --Etching method and etching apparatus ---Thi-Thuy-Nga Nguyen, ''Kenji Ishikawa'', Masaru Hori, ... -13. 特許（台湾）・TWI871572B (2025/2/1) TW112103289A (20... --Etching method ---Kazunori Shinoda, Hirotaka Hamamura, Kenji Maeda, Kene... -14. 特許（韓国）・KR102815089B1 (2025/6/5) KR10202370271... --Etching method ---Thi-Thuy-Nga Nguyen, ''Kenji Ishikawa'', Masaru Hori, ... -15. 特許（韓国）・KR102906920B1 (2026/1/5) KR10202370055... --Etching method ---Kazunori Shinoda, Hirotaka Hamamura, Kenji Maeda, Kene... -16. 特許（韓国）・KR102709624B1 (2026/9/26) KR1020227027... --Etching method and etching apparatus ---Thi-Thuy-Nga Nguyen, ''Kenji Ishikawa'', Masaru Hori, ... *国内特許 -1. 特許第3,326,717号 (2002/7/12) 特開2000-228522 (2000/8... --半導体装置の製造方法 ---中西俊郎、''石川健治'' -2. 特許第3,326,718号 (2002/7/12) 特開2000-269483 (2000/9... --半導体装置の製造方法 ---中西俊郎、''石川健治'' -3. 特許第3,452,629号 (2003/7/18) 特開平6-341952 (1994/12... --シリコン酸化膜の評価方法及び装置、ならびに半導体装置の... ---''石川健治''、藤村修三、小川洋輝、猪股カルロス -4. 特許第3,670,336号 (2005/4/22) 特開平8-264614 (1996/10... --シリコン基板の評価方法及び装置、シリコン酸化膜の評価方... ---''石川健治''、藤村修三、堀池靖浩、押田澄子、鈴木腕 -5. 特許第3,816,440号 (2006/6/16) 特開2003-203957 (2003/7... --シリコン酸化膜の評価方法及び半導体装置の製造方法 ---''石川健治''、藤村修三、小川洋輝、猪股カルロス -6. 特許第3,844,770号 (2006/8/25) 特開2005-229125 (2005/8... --シリコン基板の評価方法及び装置、シリコン酸化膜の評価方... ---''石川健治''、藤村修三、堀池靖浩、押田澄子、鈴木腕 -7. 特許第4,283,189号 (2009/3/27) 特開2006-73714 (2006/3/... --半導体装置の製造方法 ---林雅一、''石川健治'' -8. 特許第4,364,669号 (2009/8/28) 特開2005-236144 (2005/9... --ドライエッチング方法 ---''石川健治''、林雅一、柳下皓男、西川伸之 -9. 特許第4,489,059号 (2010/4/9) 特開2006-332690 (2006/12... --シリコン基板の評価方法及び装置、シリコン酸化膜の評価方... ---''石川健治''、藤村修三、堀池靖浩、押田澄子、鈴木腕 -10. 特許第4,810,355号 (2011/8/26) 特開2008-53456 (2008/3... --処理ガス供給方法、基板処理方法、半導装置の製造方法、処... ---''石川健治''、三好秀典、立石秀樹、林雅一、西川伸之 -11. 特許第4,828,451号 (2011/9/22) 特開2007-294879 (2007/... --基板処理方法、半導体装置の製造方法および基板処理装置 ---三好秀典、''石川健治''、瀧川幸雄、中田義弘、立石秀樹 -12. 特許第4,846,721号 (2011/10/21) PCT/WO2006/120739 (20... --Semiconductor device and method for manufacturing the s... ---Hiroshi Kudo, and ''Kenji Ishikawa'' -13. 特許第4,863,752号 (2011/11/18) 特開2007-273891 (2007... --半導体装置および半導体装置の製造方法 ---工藤寛、''石川健治'' -14. 特許第5,055,980号 (2012/8/10) 特開2008-140793 (2008/... --電子装置の製造方法および半導体装置の製造方法 ---''石川健治''、志度秀治、永田武雄、倉橋輝雄、三好康由 -15. 特許第5,114,968号 (2012/10/26) 特開2008-205168 (2008... --半導体装置及びその製造方法 ---''石川健治'' -16. 特許第5,200,369号 (2013/2/22) 特開2008-1409077 (2008... --電子装置およびその製造方法 ---倉橋輝雄、志度秀治、''石川健治''、永田武雄、三好康由、... -17. 特許第5,259,125号 (2013/5/2) 特開2008-78618 (2008/4/... --基板処理方法、半導体装置の製造方法、基板処理装置および... ---三好秀典、''石川健治''、立石秀樹、林雅一、西川伸之 -18. 特許第5,266,632号 (2013/5/17) 特開2008-140790 (2008/... --ＭＩＭ素子および電子装置 ---倉橋輝雄、志度秀治、''石川健治''、永田武雄、三好康由、... -19. 特許第5,481,547号 (2014/2/21) 特開2013-33996 (2013/2... --金属付着物の除去方法、基板処理装置、および記録媒体 ---三好秀典、''石川健治''、立石秀樹、林雅一、西川伸之 -20. 特許第5,516,587号 (2014/4/11) PCT/WO2011/018822 (201... --半導体装置の製造方法 ---''石川健治'' -21. 特許第5,700,397号 (2015/2/27) 特開2012-035364 (2012/... --ナノ微粒子を坦持したナノ構造体及びその製造方法 ---堀勝，関根誠，''石川健治''，近藤博基，鈴木俊哉 -22. 特許第5,754,579号 (2015/6/5) 特開2012-038568 (2012/2... --イオン源 ---節原裕一，''石川健治''，堀勝，江部明憲，田昭治 -23. 特許第5,888,674号 (2016/2/26) 特開2013-179126 (2013/... --エッチング装置およびエッチング方法およびクリーニング装置 ---堀勝, ''石川健治'', 田嶋聡美, 林俊雄 -24. 特許第6,010,839号 (2016/9/30) 特開2013-172657 (2013/... --滅菌表示装置および滅菌装置および青果物表皮の殺菌方法 ---堀勝，''石川健治''，伊藤昌文，太田貴之，橋爪博司 -25. 特許第6,021,131号 (2016/10/14) PCT/WO2014/141664 (20... --エッチング方法およびエッチング装置 ---林俊雄, 田嶋聡美, ''石川健治'', 堀勝 -26. 特許第6,028,970号 (2016/10/28) 特開2014-45049 (2014/... --半導体装置の製造方法及びエッチング方法 ---堀勝，''石川健治''、関根誠、小澤隆弘、加納浩之 -27. 特許第6,099,277号 (2017/3/3) 再公表WO2013/128905　(2... --抗腫瘍水溶液および抗癌剤とそれらの製造方法 ---堀勝, 水野正明, 吉川史隆, 梶山広明, 内海史, 中村香江, ... -28. 特許第6,304,645号 (2018/3/16) 特開2015-76143 (2015/4... --プラズマ発生装置 ---堀勝、''石川健治''、加納浩之 -29. 特許第6,328,898号 (2018/4/27) 特開2015-62210 (2015/4... --Ⅲ族窒化物半導体のエッチング方法およびⅢ族窒化物半導体装... ---堀勝, 関根誠, 小田修, ''石川健治'' -30. 特許第6,381,111号 (2018/8/10) 特開2016-3184 (2016/1/... --抗腫瘍水溶液および抗癌剤とそれらの製造方法 ---堀勝, 水野正明, 吉川史隆, 梶山広明, 内海史, 中村香江, ... -31. 特許第6,406,811号 (2018/9/28) 特開2015-99866 (2015/5... --Ⅲ族窒化物半導体装置の製造装置および製造方法ならびに半導... ---堀勝, 近藤 博基, 小田 修, ''石川健治'' -32. 特許第6,516,482号 (2019/4/26) 特開2016-134611 (2016/... --ＩＩＩ族窒化物半導体素子の製造装置および製造方法ならび... ---堀 勝, 小田 修, 関根 誠, 近藤 博基, ''石川健治'' -33. 特許第6,519,039号 (2019/5/10) 特開2015-218245 (2015/... --タンパク質膜の製造方法 ---池原 譲、池原 早苗、榊田 創、秋元 義弘、堀 勝、''石川... -34. 特許第6,736,004号 (2020/07/17) PCT/WO2016/103695 (20... --抗癌剤および輸液とそれらの製造方法ならびに抗癌物質 ---水野 正明、堀 勝、吉川 史隆、梶山 広明、内海 史、中村 ... -35. 特許第6,758,681号 (2020/9/4) PCT/WO2018/207667 (2018... --農作物の生産方法 ---堀 勝, 橋爪 博司, 田中 宏昌, 水野 正明, 秋山 真一, ''... -36. 特許第6,772,117号 (2020/10/2) 特開2019-40932 (2019/3... --エッチング方法およびエッチング装置 ---篠田 和典，小藤 直行，小林 浩之，三好 信哉，川村 ... -37. 特許第6,817,752号 (2021/1/14) 特開2018-41886 (2018/3... --エッチング方法およびエッチング装置 ---篠田 和典，酒井 哲，伊澤 勝，三好 信哉，小林 浩之... -38. 特許第6,822,669号 (2021/1/12) PCT/WO2017/110184 (201... --細胞捕捉フィルター ---木原 直人, 小口 亮平, 江口 創, 堀 勝, 田中 宏昌, ''石... -39. 特許第6,837,234号 (2021/2/12) 特開2018-111079 (2018/... --脂質二重膜構造体とその製造方法 ---堀 勝, 戸波卓也, ''石川 健治'', 近藤博基, 関根誠 -40. 特許第6,840,326号 (2021/2/19) 特開2016-150923 (2016/... --プラズマ殺菌水溶液とその製造方法および殺菌方法 ---堀 勝, ''石川 健治'', 橋爪 博司, 伊藤 昌文, 太田 貴之 -41. 特許第7,002,247号 (2022/1/4) 特開2019-038913 (2019/3... --透明樹脂の製造方法及び組立体の製造方法 ---近藤 真悟, 青木 孝司, 堀 勝, ''石川 健治'' -42. 特許第7,002,248号 (2022/1/4) 特開2019-038914 (2019/3... --樹脂部材の表面改質方法及び組立体の製造方法 ---近藤 真悟, 堀 勝, ''石川 健治'' -43. 特許第7,002,249号 (2022/1/4) 特開2019-038915 (2019/3... --樹脂部材の表面改質方法及び組立体の製造方法 ---近藤 真悟, 堀 勝, ''石川 健治'' -44. 特許第7,018,204号 (2022/2/2) PCT/WO2018/066248 (2018... --シュウ酸の製造方法 ---''石川 健治'', 堀 勝, 倉家 尚之, 田中 宏昌 -45. 特許第7,076,782号 (2022/5/20) 特開2019-210491 (2019/... --パルスパワー印加装置および液体の処理方法 ---清水 尚博, 堀 勝, ''石川 健治'' -46. 特許第7,085,735号 (2022/6/9) PCT/WO2018/088559 (2018... --農作物の生産方法 ---橋爪 博司, 堀 勝, ''石川 健治'', 田中 宏昌, 秋山 ... -47. 特許第7,097,543号 (2022/6/30) 特開2020-018277 (2020/... --イネの生産方法 ---堀 勝, 橋爪 博司, 水野 正明, 北野 英己, 前島 正義... -48. 特許第7,141,036号 (2022/9/13) 特開2020-018278 (2020/... --イネの生産方法 ---堀 勝, 橋爪 博司, 水野 正明, 北野 英己, 前島 正義... -49. 特許第7,154,524号 (2022/10/7) 特開2020-070244 (2020/... --腹腔内洗浄溶液の製造方法 ---吉川 史隆, 堀 勝, 水野 正明, 豊國 伸哉, 梶山 広明... -50. 特許第7,173,040号 (2022/11/8) WO2019/093231(2019/5/1... --フロートガラスの製造方法、およびフロートガラスの製造装置 ---中尾 圭介，小高 秀文，林 泰夫，東 誠二，堀 勝，''石川 ... -51. 特許第7,199,053号 (2022/12/22) 特開2020-70243 (2020/... --創傷治癒促進溶液の製造方法 ---吉川 史隆，堀 勝，水野 正明，豊國 伸哉，亀井 讓，蛯沢 ... -52. 特許第7,205,817号 (2023/1/6) 特開2018-57375 (2018/4/... --幹細胞様細胞の調製方法 ---片岡 洋祐，大和 正典，田村 泰久，中野 真行，堀 勝... -53. 特許第7,274,167号 (2023/5/8) 特開2020-136584 (2020/8... --エッチングガス及びそれを用いたエッチング方法 ---西海 雅巳, 中村 新吾, ''石川 健治'', 堀 勝 -54. 特許第7,274,747号 (2023/5/9) 特開2021-98624 (2021/7/... --カーボンナノウォールとその製造方法および気相成長装置 ---堀 勝, ''石川 健治'', 清水 尚博, 市川 知範 -55. 特許第7,296,093号 (2023/6/14) 特開2020-125223 (2020/... --窒化炭素膜の製造方法および窒化炭素被覆体の製造方法 ---堀 勝, ''石川 健治'', 関根 誠, 堤 隆嘉, 福永 裕介, 近... -56. 特許第7,307,907号 (2023/7/5) 特開2020-132968 (2020/8... --ｃＢＮ膜の製造方法 ---''石川 健治'', 堀 勝, 山川 晃司, 山本 博之, 田 昭... -57. 特許第7,307,952号 (2023/7/5) WO2019/131667 (2019/7/4... --カーボンナノシートとその製造方法 ---堀 勝，近藤 博基，''石川 健治'' -58. 特許第7,325,126号 (2023/08/03)  特開2022-149156 (202... --処理装置及び処理方法 ---清水 尚博, ボルデ ランジット, ''石川 健治'', 堀 勝... -59. 特許第7,356,732号 (2023/09/27) 特開2022-149155 (2022... --処理装置及び処理方法 ---清水 尚博, ボルデ ランジット, ''石川 健治'', 堀 勝... -60. 特許第7,371,881号 (2023/10/23) 特開2019-163241 (201... --抗癌剤および抗癌物質および輸液 ---吉川 史隆, 堀 勝, 水野 正明, 田中 宏昌, ''石川 健治'' -61. 特許第7,523,553号 (2024/07/18) WO2023/067767 特表202... --エッチング方法およびエッチング装置 ---グエン ティ トゥイ ガー, ''石川 健治'', 堀 勝, 篠... -62. 特許第7,535,175号 (2024/8/6) WO2023/148797 PCT/JP202... --エッチング方法 ---篠田 和典, 濱村 浩孝, 前田 賢治, 横川 賢悦, グエン... -63. 特許第7,562,110号 (2024/09/27) 特開2022-13006 (2022/... --Ｓｎ粒子の製造方法 ---堀 勝, グエン ガー, ''石川 健治'', 堤 隆嘉 -64. 特許第7,634,106号 (2025/02/12) 特表2024-520971 (2024... --エッチング方法 ---ティ トゥイ ガー グエン, ''石川 健治'', 堀 勝, 篠... -65. 特許第7,672,929号 (2025/04/25) 特開2023-38032 (2023/... --汚れ除去装置 ---堀 勝, 堤 隆嘉, ''石川 健治'', 阪本 芳弘 -66. 特許第7,744,651号 (2025/09/17) 特開2023-71118 (2023/... --酸素ラジカル活性化水溶液生成装置および殺菌方法 ---堀 勝, 橋爪 博司, ''石川 健治'', 岩田 直幸, 伊藤 ... -67. 特許第7,875,389号 (2026/06/09) PCT/JP2024/007672 (20... --エッチング方法  ---篠田　和典, グエン　ティ　トゥイ　ガー, 三浦　勝哉, 高... -68. 特許第7,895,461号 (2026/07/16) 特開2025-78818 (2025/... --汚れ除去装置 ---堀 勝, 堤 隆嘉, ''石川 健治'', 阪本 芳弘 *公開中 +特開2025-75660 (2025/5/15) 特願2023-186975 (2023/10/31) --ドライエッチング方法 ---''石川 健治'', グエン ティ トゥイ ガー, 赤木 大二... +特開2025-133636 (2025/9/11) 特願2024-31718 (2024/3/1) --エッチング方法 ---''石川 健治'', トラン トラン グエン, 西海 雅巳, 林... +特開2025-167738 (2025/11/7) 特願2024-72610 (2024/4/26) --エッチング装置 ---谷出 敦，中村 昭平，''石川 健治'' +WO2025/173152 特表2026-507766 (2026.3.6) 特願2025-538572... --エッチング処理方法、処理方法および半導体製造システム ---グエン ティ トゥイ ガー, 山口 欣秀, 堀 勝, ''石川... //*公開中・査定無し //+ 特許(米国)公開US2009-0204252 //--Substrate processing method and apparatus, method for... //---Hidenori Miyoshi, ''Kenji Ishikawa'', Hideki Tateish... //+ 特許公開(中国)・101127295 //--Substrate processing method and apparatus, fabricatio... //---Hidenori Miyoshi, ''Kenji Ishikawa'', Yukio Takigawa... //+ 特許公開(台湾)・200741969 //--Substrate processing method and apparatus, fabricatio... //---Hidenori Miyoshi, ''Kenji Ishikawa'', Yukio Takigawa... //-公開. 特許（米国）US 20150056381-A1 (2015/2/26) PCT/JP... //--METHOD FOR FORMING CONDUCTIVE FILM //--Formation of electro-conductive film involves forming... //---Masaru Hori, Hirotaka Toyoda, Makoto Sekine, Keigo T... //-特許（韓国）・KR1020147023442A (2014/11/7) KR201413013... //--Formation of electroconductive film involves forming ... //---Masaru Hori, Hirotaka Toyoda, Makoto Sekine, Keigo T... //-公開. 特許（米国）US 20150030693-A1 (2015/1/29) PCT/JP... //--ANTI-TUMOR AQUEOUS SOLUTION, ANTI-CANCER AGENT, AND M... //---Masaru Hori, Masaaki Mizuno, Fumitaka Kikkawa, Hiroa... //-公開. 特許（米国）US 20170107342-A1 (2017/4/20) PCT/JP... //--PROTEIN FILM PRODUCTION METHOD //---Masaru HORI, Kenji ISHIKAWA, Yuzuru IKEHARA, Sanae I... //-見なし取り下げ　特許公開2005-330546 出願2004-150450 //--金属膜の処理方法及び金属膜の処理装置 //---西川伸之、''石川健治'' //-見なし取り下げ　特許公開2007-266128 2006-086530 //--半導体装置および半導体装置の製造方法 //---''石川健治''，工藤寛，福田昌俊 //-見なし取り下げ　特許公開2007-273891 //--半導体装置および半導体装置の製造方法 //---''石川健治''、工藤寛 //-見なし取り下げ　特許公開2008-147257 出願2006-329908 (2... //--電子装置およびその製造方法、メモリ装置 //---永田武雄、志度秀治、''石川健治''、倉橋輝雄、三好康由 //-見なし取り下げ　特許公開2009-49166 出願2007-213501 (20... //--半導体装置及びその製造方法 //---''石川健治''、永田武雄 //-見なし取り下げ　特許公開2009-099639 出願2007-267397 (2... //--半導体装置及びその製造方法 //---永田武雄、''石川健治'' //-見なし取り下げ　特許公開2010-093051 出願2008-261431 (2... //--電界効果型半導体装置 //---''石川健治'' //-見なし取り下げ　特許公開2011-40524 出願2009-185581 (20... //--半導体装置の製造方法及び半導体装置 //---''石川健治'' //-見なし取り下げ　特許公開2011-215267(平成２３年１０月２... //--色消しレンズとその製造方法，および色消しレンズを備え... //---海老塚昇，近藤博基，''石川健治''，堀勝 //-見なし取り下げ　特許公開2011-215271(平成２３年１０月２... //--回折レンズ //---海老塚昇，''石川健治''，近藤博基，堀勝 //-見なし取り下げ　特許公開2012-13930(平成２４年１月１９... //--グリズムとその製造方法，およびグリズムを備えた光学装置 //---海老塚昇，''石川健治''，近藤博基，堀勝 //-見なし取り下げ　特許公開2012-013931(平成２４年１月１９... //--平面導波路 //---海老塚昇，''石川健治''，近藤博基，堀勝 //-見なし取り下げ　特開2012-103071(平成２４年５月３１日) ... //--有機強誘電材料の評価方法、評価装置、及び電子装置の製... //---堀勝，''石川健治'' //-見なし取り下げ　 ? 特願2012-039645 (2012/2/27) //--プラズマ溶液とその製造方法 //---堀勝，水野正明，吉川史隆，梶山広明，中村香江，''石川... //-見なし取り下げ　特開2014-179553 (2014/9/25) 特願2013-0... //--エッチング方法およびエッチング装置 //---田嶋聡美, 林俊雄, ''石川健治'', 堀勝 //-見なし取り下げ 特願2013-047427 (2013/3) //--エッチング方法およびエッチング装置 //---堀勝、林俊雄、''石川健治'', ... //-見なし取り下げ 特開2013-178917 (2013/9/9) 特願2012-415... //--導電性膜の形成方法 //---堀 勝, 豊田 浩孝, 関根 誠, 竹田 圭吾, 近藤 博基, ''... //-見なし取り下げ 特開2016-134610 (2016/7/25) 特願2015-10... //--ＩＩＩ族窒化物半導体素子とその製造方法 //---堀勝, 小田修, 関根誠, 近藤博基, ''石川健治'' //-見なし取り下げ 特開2016-165233 (2016/9/15) 特願2015-45... //--細胞捕捉チップ及び細胞捕捉方法 //---龍腰健太郎, 小高秀文, 小野島大介, ''石川健治'', 湯川... //-拒絶 特開2016-169164 (2016/9/23) 特願2015-047884 (2015... //--抗腫瘍水溶液とその製造方法 //---堀勝, 倉家尚之, 水野正明, 吉川史隆, 梶山広明, 中村香... //-見なし取り下げ 特開2017-221887 (2017/12/21) 特願2016-1... //--加工フィルム付き積層体の製造方法、加工フィルムの製造... //---木原 直人, 堀 勝, ''石川 健治'' //-見なし取り下げ 特開2018-33434 (2018/3/8) 特願2016-1722... //--細胞捕捉チップ、その製造方法および細胞捕捉方法 //---龍腰 健太郎, 浜田 剛, 木原 直人, 諏訪 久美子, 小... //-拒絶 特開2018-141728 (2018/9/13) 特願2017-36997 (2017/... //--生活習慣病の診断方法 //---内田 浩二, 柴田 貴広, ''石川 健治'', リ オイ ル... //-見なし取り下げ 特開2018-144209 (2018/9/20) 特願2017-44... //--絶縁基板に複数の貫通孔を形成する方法、および複数の貫... //---吉武 尚輝, 堀 勝, ''石川 健治'', 裏地 啓一郎, 龍腰 ... //-拒絶 特開2019-090671 (2019/6/13) 特願2017-219099 (2017... //--炎症の診断方法 //---内田 浩二, 堀 勝, 松下 正, 柴田 貴広, ''石川 健治'',... //-見なし取り下げ 特開2025-128419 (2025.9.3) 特願2022-117... //--炭素原子含有膜のドライエッチング方法 //---堀 勝, ''石川 健治'', グエン ティ トゥイ ガー, ... //-見なし取り下げ 特開2025-128420 (2025.9.3) 特願2022-117... //--炭素原子含有膜のドライエッチング方法 //---堀 勝, ''石川 健治'', グエン ティ トゥイ ガー, ... #include(Footer,notitle)

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[[FrontPage]] *特許　 米国 14 件,　韓国・台湾・中国 16 件,　日本 68 件 (2026.7) *米国特許 -1. 特許（米国）・US 5,595,916号 (1997/1/21) 出願 US 08/2... --Silicon oxide film evaluation method ---Shuzo Fujimura, Hiroki Ogawa, ''Kenji Ishikawa'', and ... -2. 特許（米国）・US7,612,400号 (2009/11/3) 公開 US 20080... --MIM device and electronic apparatus ---Teruo Kurahashi, Hideharu Shido, ''Kenji Ishikawa'', T... -3. 特許（米国）・US7,679,144号 (2010/3/16) 公開 US 20080... --Semiconductor device and method for manufacturing the s... ---Hiroshi Kudo, and ''Kenji Ishikawa'' -4. 特許（米国）・US7,709,394号 (2010/5/4) 公開 US 200702... --Substrate processing method and apparatus, fabrication ... ---Hidenori Miyoshi, ''Kenji Ishikawa'', Yukio Takigawa, ... -5. 特許（米国）・US7,968,466号 (2011/6/28) 公開 US 20080... --Fabrication process of a semiconductor device ---''Kenji Ishikawa'', Hideharu Shido, Takeo Nagata, Teru... -6. 特許（米国）・US9,773,667号 (2017/9/26) 公開 US 20150... --Apparatus and method for producing group III nitride se... ---Masaru Hori, Hiroki Kondo, ''Kenji Ishikawa'', Osamu Oda -7. 特許（米国）・US10,325,781号 (2019/6/18) 公開 US 2018... --Etching method and etching apparatus ---Kazunori Shinoda, Satoshi Sakai, Masaru Izawa, Nobuya ... -8. 特許（米国）・US10,418,254号 (2019/9/17) 公開 US 2019... --Etching method and etching apparatus ---Kazunori Shinoda, Naoyuki Kofuji, Hiroyuki Kobayashi, ... -9. 特許（米国）・US10,481,169号 (2019/11/19) 公開 US 201... --Diagnostic method and biomarker for lifestyle disease ---Koji Uchida, Takahiro Shibata, ''Kenji Ishikawa'', Oi ... -10. 特許（米国）・US11,261,091号 (2022/3/1) 公開 US 2021... --Carbon nanosheet and manufacturing method therefor ---Masaru Hori, Hiroki Kondo, ''Kenji Ishikawa'' -11. 特許（米国）・US12,237,174号 (2025/2/25) PCT/JP2021/... --Etching method ---Kazunori Shinoda, Hirotaka Hamamura, Kenji Maeda, Kene... -12. 特許（米国）・US12,444,618号 (2025/10/14) PCT/JP2021... --Etching method and etching apparatus ---Thi-Thuy-Nga Nguyen, ''Kenji Ishikawa'', Masaru Hori, ... -13. 特許（米国）・US12,518,975号 (2026/1/6) PCT/JP2022/0... --Etching method ---Thi-Thuy-Nga Nguyen, ''Kenji Ishikawa'', Masaru Hori, ... -14. 特許（米国）・US12,652,977号 (2026/6/9) PCT/JP2022/0... --Etching method ---Kazunori Shinoda, Hirotaka Hamamura, Kenji Maeda, Kene... *その他海外特許 -1. 特許（韓国）・KR100847917B1 (2008/7/22) KR10200700299... --Substrate processing method and apparatus, fabrication ... ---Hidenori Miyoshi, ''Kenji Ishikawa'', Yukio Takigawa, ... -2. 特許（台湾）・TW200741969A (2007/11/1) TW096109573A ... --Substrate processing method and apparatus, fabrication ... ---Hidenori Miyoshi, ''Kenji Ishikawa'', Yukio Takigawa, ... -3. 特許（韓国）・KR100915360B1 (2009/9/3) KR10200701222... --Fabrication process of a semiconductor device ---''Kenji Ishikawa'', Hideharu Shido, Takeo Nagata, Teru... -4. 特許（韓国）・KR100944192B1 (2009/2/26) KR10200701218... --MIM device and electronic apparatus ---Teruo Kurahashi, Hideharu Shido, ''Kenji Ishikawa'', T... -5. 特許（台湾）・TWI648786B (2019/1/21) TW106129551A (20... --Etching method and etching apparatus ---Kazunori Shinoda, Satoshi Sakai, Masaru Izawa, Nobuya ... -6. 特許（韓国）・KR102027195B1 (2019/10/1) KR10201701091... --Etching method and etching apparatus ---Kazunori Shinoda, Satoshi Sakai, Masaru Izawa, Nobuya ... -7. 特許（台湾）・TWI661484B (2019/6/1) TW107106284A (201... --Etching method and etching apparatus ---Kazunori Shinoda, Naoyuki Kofuji, Hiroyuki Kobayashi, ... -8. 特許（韓国）・KR102102264B1 (2020/4/21) KR1020180019... --Etching method and etching apparatus ---Kazunori Shinoda, Naoyuki Kofuji, Hiroyuki Kobayashi, ... -9. 特許（韓国）・KR102330144B1 (2021/11/22) KR2015005802... --Apparatus and method for producing group III nitride se... ---Masaru Hori, Hiroki Kondo, ''Kenji Ishikawa'', Osamu Oda -10. 特許（台湾）・TWI812063B (2023/8/11) TW111109154A (2... --Etching method ---Kazunori Shinoda, Hirotaka Hamamura, Kenji Maeda, Kene... -11. 特許（台湾）・TWI857522B (2024/10/1) TW112109379A (2... --Etching method ---Thi-Thuy-Nga Nguyen, ''Kenji Ishikawa'', Masaru Hori, ... -12. 特許（台湾）・TWI861545B (2024/11/11) TW111130566A (... --Etching method and etching apparatus ---Thi-Thuy-Nga Nguyen, ''Kenji Ishikawa'', Masaru Hori, ... -13. 特許（台湾）・TWI871572B (2025/2/1) TW112103289A (20... --Etching method ---Kazunori Shinoda, Hirotaka Hamamura, Kenji Maeda, Kene... -14. 特許（韓国）・KR102815089B1 (2025/6/5) KR10202370271... --Etching method ---Thi-Thuy-Nga Nguyen, ''Kenji Ishikawa'', Masaru Hori, ... -15. 特許（韓国）・KR102906920B1 (2026/1/5) KR10202370055... --Etching method ---Kazunori Shinoda, Hirotaka Hamamura, Kenji Maeda, Kene... -16. 特許（韓国）・KR102709624B1 (2026/9/26) KR1020227027... --Etching method and etching apparatus ---Thi-Thuy-Nga Nguyen, ''Kenji Ishikawa'', Masaru Hori, ... *国内特許 -1. 特許第3,326,717号 (2002/7/12) 特開2000-228522 (2000/8... --半導体装置の製造方法 ---中西俊郎、''石川健治'' -2. 特許第3,326,718号 (2002/7/12) 特開2000-269483 (2000/9... --半導体装置の製造方法 ---中西俊郎、''石川健治'' -3. 特許第3,452,629号 (2003/7/18) 特開平6-341952 (1994/12... --シリコン酸化膜の評価方法及び装置、ならびに半導体装置の... ---''石川健治''、藤村修三、小川洋輝、猪股カルロス -4. 特許第3,670,336号 (2005/4/22) 特開平8-264614 (1996/10... --シリコン基板の評価方法及び装置、シリコン酸化膜の評価方... ---''石川健治''、藤村修三、堀池靖浩、押田澄子、鈴木腕 -5. 特許第3,816,440号 (2006/6/16) 特開2003-203957 (2003/7... --シリコン酸化膜の評価方法及び半導体装置の製造方法 ---''石川健治''、藤村修三、小川洋輝、猪股カルロス -6. 特許第3,844,770号 (2006/8/25) 特開2005-229125 (2005/8... --シリコン基板の評価方法及び装置、シリコン酸化膜の評価方... ---''石川健治''、藤村修三、堀池靖浩、押田澄子、鈴木腕 -7. 特許第4,283,189号 (2009/3/27) 特開2006-73714 (2006/3/... --半導体装置の製造方法 ---林雅一、''石川健治'' -8. 特許第4,364,669号 (2009/8/28) 特開2005-236144 (2005/9... --ドライエッチング方法 ---''石川健治''、林雅一、柳下皓男、西川伸之 -9. 特許第4,489,059号 (2010/4/9) 特開2006-332690 (2006/12... --シリコン基板の評価方法及び装置、シリコン酸化膜の評価方... ---''石川健治''、藤村修三、堀池靖浩、押田澄子、鈴木腕 -10. 特許第4,810,355号 (2011/8/26) 特開2008-53456 (2008/3... --処理ガス供給方法、基板処理方法、半導装置の製造方法、処... ---''石川健治''、三好秀典、立石秀樹、林雅一、西川伸之 -11. 特許第4,828,451号 (2011/9/22) 特開2007-294879 (2007/... --基板処理方法、半導体装置の製造方法および基板処理装置 ---三好秀典、''石川健治''、瀧川幸雄、中田義弘、立石秀樹 -12. 特許第4,846,721号 (2011/10/21) PCT/WO2006/120739 (20... --Semiconductor device and method for manufacturing the s... ---Hiroshi Kudo, and ''Kenji Ishikawa'' -13. 特許第4,863,752号 (2011/11/18) 特開2007-273891 (2007... --半導体装置および半導体装置の製造方法 ---工藤寛、''石川健治'' -14. 特許第5,055,980号 (2012/8/10) 特開2008-140793 (2008/... --電子装置の製造方法および半導体装置の製造方法 ---''石川健治''、志度秀治、永田武雄、倉橋輝雄、三好康由 -15. 特許第5,114,968号 (2012/10/26) 特開2008-205168 (2008... --半導体装置及びその製造方法 ---''石川健治'' -16. 特許第5,200,369号 (2013/2/22) 特開2008-1409077 (2008... --電子装置およびその製造方法 ---倉橋輝雄、志度秀治、''石川健治''、永田武雄、三好康由、... -17. 特許第5,259,125号 (2013/5/2) 特開2008-78618 (2008/4/... --基板処理方法、半導体装置の製造方法、基板処理装置および... ---三好秀典、''石川健治''、立石秀樹、林雅一、西川伸之 -18. 特許第5,266,632号 (2013/5/17) 特開2008-140790 (2008/... --ＭＩＭ素子および電子装置 ---倉橋輝雄、志度秀治、''石川健治''、永田武雄、三好康由、... -19. 特許第5,481,547号 (2014/2/21) 特開2013-33996 (2013/2... --金属付着物の除去方法、基板処理装置、および記録媒体 ---三好秀典、''石川健治''、立石秀樹、林雅一、西川伸之 -20. 特許第5,516,587号 (2014/4/11) PCT/WO2011/018822 (201... --半導体装置の製造方法 ---''石川健治'' -21. 特許第5,700,397号 (2015/2/27) 特開2012-035364 (2012/... --ナノ微粒子を坦持したナノ構造体及びその製造方法 ---堀勝，関根誠，''石川健治''，近藤博基，鈴木俊哉 -22. 特許第5,754,579号 (2015/6/5) 特開2012-038568 (2012/2... --イオン源 ---節原裕一，''石川健治''，堀勝，江部明憲，田昭治 -23. 特許第5,888,674号 (2016/2/26) 特開2013-179126 (2013/... --エッチング装置およびエッチング方法およびクリーニング装置 ---堀勝, ''石川健治'', 田嶋聡美, 林俊雄 -24. 特許第6,010,839号 (2016/9/30) 特開2013-172657 (2013/... --滅菌表示装置および滅菌装置および青果物表皮の殺菌方法 ---堀勝，''石川健治''，伊藤昌文，太田貴之，橋爪博司 -25. 特許第6,021,131号 (2016/10/14) PCT/WO2014/141664 (20... --エッチング方法およびエッチング装置 ---林俊雄, 田嶋聡美, ''石川健治'', 堀勝 -26. 特許第6,028,970号 (2016/10/28) 特開2014-45049 (2014/... --半導体装置の製造方法及びエッチング方法 ---堀勝，''石川健治''、関根誠、小澤隆弘、加納浩之 -27. 特許第6,099,277号 (2017/3/3) 再公表WO2013/128905　(2... --抗腫瘍水溶液および抗癌剤とそれらの製造方法 ---堀勝, 水野正明, 吉川史隆, 梶山広明, 内海史, 中村香江, ... -28. 特許第6,304,645号 (2018/3/16) 特開2015-76143 (2015/4... --プラズマ発生装置 ---堀勝、''石川健治''、加納浩之 -29. 特許第6,328,898号 (2018/4/27) 特開2015-62210 (2015/4... --Ⅲ族窒化物半導体のエッチング方法およびⅢ族窒化物半導体装... ---堀勝, 関根誠, 小田修, ''石川健治'' -30. 特許第6,381,111号 (2018/8/10) 特開2016-3184 (2016/1/... --抗腫瘍水溶液および抗癌剤とそれらの製造方法 ---堀勝, 水野正明, 吉川史隆, 梶山広明, 内海史, 中村香江, ... -31. 特許第6,406,811号 (2018/9/28) 特開2015-99866 (2015/5... --Ⅲ族窒化物半導体装置の製造装置および製造方法ならびに半導... ---堀勝, 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//--METHOD FOR FORMING CONDUCTIVE FILM //--Formation of electro-conductive film involves forming... //---Masaru Hori, Hirotaka Toyoda, Makoto Sekine, Keigo T... //-特許（韓国）・KR1020147023442A (2014/11/7) KR201413013... //--Formation of electroconductive film involves forming ... //---Masaru Hori, Hirotaka Toyoda, Makoto Sekine, Keigo T... //-公開. 特許（米国）US 20150030693-A1 (2015/1/29) PCT/JP... //--ANTI-TUMOR AQUEOUS SOLUTION, ANTI-CANCER AGENT, AND M... //---Masaru Hori, Masaaki Mizuno, Fumitaka Kikkawa, Hiroa... //-公開. 特許（米国）US 20170107342-A1 (2017/4/20) PCT/JP... //--PROTEIN FILM PRODUCTION METHOD //---Masaru HORI, Kenji ISHIKAWA, Yuzuru IKEHARA, Sanae I... //-見なし取り下げ　特許公開2005-330546 出願2004-150450 //--金属膜の処理方法及び金属膜の処理装置 //---西川伸之、''石川健治'' //-見なし取り下げ　特許公開2007-266128 2006-086530 //--半導体装置および半導体装置の製造方法 //---''石川健治''，工藤寛，福田昌俊 //-見なし取り下げ　特許公開2007-273891 //--半導体装置および半導体装置の製造方法 //---''石川健治''、工藤寛 //-見なし取り下げ　特許公開2008-147257 出願2006-329908 (2... //--電子装置およびその製造方法、メモリ装置 //---永田武雄、志度秀治、''石川健治''、倉橋輝雄、三好康由 //-見なし取り下げ　特許公開2009-49166 出願2007-213501 (20... //--半導体装置及びその製造方法 //---''石川健治''、永田武雄 //-見なし取り下げ　特許公開2009-099639 出願2007-267397 (2... //--半導体装置及びその製造方法 //---永田武雄、''石川健治'' //-見なし取り下げ　特許公開2010-093051 出願2008-261431 (2... //--電界効果型半導体装置 //---''石川健治'' //-見なし取り下げ　特許公開2011-40524 出願2009-185581 (20... //--半導体装置の製造方法及び半導体装置 //---''石川健治'' //-見なし取り下げ　特許公開2011-215267(平成２３年１０月２... //--色消しレンズとその製造方法，および色消しレンズを備え... //---海老塚昇，近藤博基，''石川健治''，堀勝 //-見なし取り下げ　特許公開2011-215271(平成２３年１０月２... //--回折レンズ //---海老塚昇，''石川健治''，近藤博基，堀勝 //-見なし取り下げ　特許公開2012-13930(平成２４年１月１９... //--グリズムとその製造方法，およびグリズムを備えた光学装置 //---海老塚昇，''石川健治''，近藤博基，堀勝 //-見なし取り下げ　特許公開2012-013931(平成２４年１月１９... //--平面導波路 //---海老塚昇，''石川健治''，近藤博基，堀勝 //-見なし取り下げ　特開2012-103071(平成２４年５月３１日) ... //--有機強誘電材料の評価方法、評価装置、及び電子装置の製... //---堀勝，''石川健治'' //-見なし取り下げ　 ? 特願2012-039645 (2012/2/27) //--プラズマ溶液とその製造方法 //---堀勝，水野正明，吉川史隆，梶山広明，中村香江，''石川... //-見なし取り下げ　特開2014-179553 (2014/9/25) 特願2013-0... //--エッチング方法およびエッチング装置 //---田嶋聡美, 林俊雄, ''石川健治'', 堀勝 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