Study on Characteristics of Fluorocarbon Gas Plasma with Superposition of Radio Frequencies and Direct Current and Etching Mechanisms of SiO2 in Semiconductor Etching Equipment
Studies on Development of Measurement Technique of Absolute Densities of Atomic Species in Reactive Plasma Process Using Vacuum Ultraviolet Absorption Spectroscopy with Microdischarge Hollow Cathode Lamp(マイクロ放電ホローカソードランプを用いた真空紫外吸収分光法による反応性プラズマプロセス中の原子種の絶対密度計測技術の開発に関する研究)
村田和哉
高密度シラン・水素プラズマによる微結晶シリコン薄膜の成長に関する研究
Studies on Microcrystalline Silicon Film Growth in High-Density Silane and Hydrogen Plasma
大田裕之
PECVD法による高誘電率ゲート絶縁膜用極薄シリコン窒化膜形成に関する研究
Studies on Ultrathin Silicon Nitride Film Formation for High-k Gate Dielectrics Using Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition