#author("2023-12-20T15:35:31+09:00","default:ishikawa","ishikawa") #author("2023-12-20T20:45:55+09:00","default:ishikawa","ishikawa") [[(最近の論文)>Publication]], [[(それ以前のもの)>Publication2]] これは日本語の論文リストです. これは日本語の総説の論文リストです. **2023 -[J14] 総説:プラズマなどで処理された水の多様性 Preface: Diversity of water activated by low temperature plasma, etc. --静電気学会誌 47巻 6号 p. 1 (December 1, 2023) ---''石川健治'' Kenji Ishikawa -[J13] &color(white,brown){PM}; The possibility of cancer therapy with a combination of low temperature plasma and hyperthermia --Thermal Medicine 39 (3) pp. 21-30 (November 10, 2023). [[(DOI):https://doi.org/10.3191/thermalmed.39.21]], [[(go to Journal top):https://www.jstage.jst.go.jp/browse/thermalmed/-char/ja]] ---Takashi Kondo, Hiroshi Hashizume, Hiromasa Tanaka, ''Kenji Ishikawa'', and Masaru Hori -[J12] &color(white,brown){PM}; Free radical formation induced by cold atmospheric plasma and its biological implications-Comparison with ionizing radiation- (低温大気圧プラズマによるフリーラジカル生成とその生物学的意義) (in Japanese) --化学工業 74 (20), pp. 120-126 (February 2023). [[(Web):http://www.kako-sha.co.jp/volkagaku.html]] ---Takashi Kondo, Hiroshi Hashizume, Hiromasa Tanaka, ''Kenji Ishikawa'', and Masaru Hori **2021 -[J11] &color(white,brown){PM}; プラズマによるがん治療-2021年の状況と将来展望- Plasma Cancer Therapy -The 2021 present status and future perspectives- --静電気学会誌 45 (6), pp.206-212 (December, 2021) [[(web):http://www.iesj.org/publications/1/#_45]] ---''Kenji Ishikawa'', and Masaru Hori -[J10] &color(white,brown){PM}; 大気圧プラズマによるフリーラジカル生成と生物影響 Effects of free radicals generated by atmospheric pressure plasma on physical actions and biochemical relaxations (PACR) --放射線生物研究 Radiation Biology Research Communications 56 (3), pp. 280-294 (October, 2021) [[(Web):http://rbrc.kenkyuukai.jp/special/index.asp?id=36664]] ---''Kenji Ishikawa'', Hiroshi Hashizume, Camelia Miron, Hiromasa Tanaka, and Masaru Hori -[J9] 窒化物半導体プラズマエッチングにおける原子層反応制御と低ダメージプロセス --プラズマ・核融合学会誌 97 (9), pp. 517-521 (September 30, 2021) (in Japanese) [[(pdf):http://www.jspf.or.jp/Journal/PDF_JSPF/jspf2021_09/jspf2021_09-517.pdf]] ---Takayoshi Tsutsumi, ''Kenji Ishikawa'', Hiroki Kondo, Makoto Sekine, and Masaru Hori (堤 隆嘉,''石川 健治'',近藤 博基,関根 誠,堀 勝) -[J8] 小特集 先端デバイス構造を実現する超絶ドライエッチング技術の最前線 6.おわりに --プラズマ・核融合学会誌 97 (9), pp. 534-536 (September 30, 2021) (in Japanese) [[(pdf):http://www.jspf.or.jp/Journal/PDF_JSPF/jspf2021_09/jspf2021_09-534.pdf]] ---''Kenji Ishikawa'', and Keigo Takeda (''石川 健治'',竹田 圭吾) -[J7] 小特集 先端デバイス構造を実現する超絶ドライエッチング技術の最前線 1.はじめに --プラズマ・核融合学会誌 97 (9), pp. 508-510 (September 30, 2021) (in Japanese) [[(pdf):http://www.jspf.or.jp/Journal/PDF_JSPF/jspf2021_09/jspf2021_09-508.pdf]] ---''Kenji Ishikawa'', and Keigo Takeda (''石川 健治'',竹田 圭吾) **2018 -[J6] 大気圧プラズマ処理による異種材料接合 --化学工学 2018年9月号 〔特集〕接着技術の最新動向 化学工学 82 (9) (September, 2018) [[(web):http://www.scej.org/publication/journal/backnumber/vol-82-09.html]] ---近藤 博基, 堤 隆嘉, ''石川健治'', 関根 誠, 堀 勝 -[J5] &color(white,red){Free}; 最先端プラズマバイオ技術 --Japanese Society of Radiation Chemistry 104, pp. 3-14 (October 31, 2017) 放射線化学 (in Japanese) [[(web):http://www.radiation-chemistry.org/kaishi/no104.html]] ---Masaru Hori, ''Kenji Ishikawa'', Takashi Kondo, Hiromasa Tanaka, and Hiroshi Hashizume -[J4] &color(white,red){ESR}; &color(white,brown){PM}; 電子スピン共鳴法を活用したプラズマバイオ反応プロセスの診断 --プラズマ核融合学会誌 2017年5月号 小特集「気相-液相反応プロセスにおける診断技術の進展」, [[(PDF):https://www.jspf.or.jp/Journal/PDF_JSPF/jspf2017_05/jspf2017_05-246.pdf]] ---''石川健治'', 近藤隆, 竹田圭吾, 呉準席, 橋爪博司, 田中宏昌, 近藤博基, 太田貴之, 伊藤昌文, 関根誠, 堀勝 -[J3] &color(black,yellow){IR}; ラジカル支援原子層制御ナノプロセス --化学工学 2016年7月号 小特集「原子を積んで膜をつくる-ALDプロセスの化学工学的展開-」, [[(web):http://www.scej.org/publication/journal/backnumber/vol-80-07.html]] ---''石川健治'', 小林明子, 盧翌, 竹田圭吾, 近藤博基, 関根誠, 堀勝 -[J2] タングステン加熱触媒体により生成した水素ラジカルによるレジスト用ベースポリマーの分解除去 (in Japanese) --高分子論文集(Kobunshi Ronbunshu) 69 (6), pp. 266-273 (2012) [[(DOI):https://doi.org/10.1295/koron.69.266]], [[link to JStage:https://www.jstage.jst.go.jp/article/koron/69/6/69_2011-0010/_article/-char/ja/]] ---新井 祐, 渡邉 誠, 河野 昭彦, 山岸 忠明, ''石川 健治'', 堀 勝, 堀邊 英夫 -[J1] Dry cleaning technologeis - semiconductor device manufacturing - (ドライ洗浄技術 -半導体製造-) --Journal of the Japan Society for Precision Engineering (精密工学会誌) 70 (7), pp. 894-897 (2004) (in Japanese) [[(DOI):https://doi.org/10.2493/jjspe.70.894]] ---Takashi Ito(伊藤 隆司), Rinji Sugino (杉野 林志), ''Kenji Ishikawa'' (石川 健治)