堀研博士論文 をテンプレートにして作成

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[[Memorandum]] **2023 Spring -Naoyuki Iwata 岩田直幸 --Study on bactericidal effect of tryptophan solution irr... -Yang Liu 劉洋 --プラズマ活性化乳酸リンゲル液（PAL）中の反応メカニズム解... -夏目祥揮 --ダイバータプラズマ物性理解のための計測・解析技術の高度... --主査： 大野哲靖 **2022 Autumn -Tomonori Ichikawa 市川知範 (JAXA) --Study on the application of carbon nanowalls for cultur... **2022 Spring -大森 達夫　（三菱電機） --低気圧・高密度プラズマエッチング現象の解明とその高性能... **2021 Autumn -Quan Shi --Role of impurity deposition in the formation of silicon... --主査： 大野哲靖 **2021 Spring -今村翼 (Kioxia -> Hitachi) --先端LSI製造プロセスに置けるO2，CO2およびCOプラズマを利... -Shuangyuan FENG 馮双園 --Photocatalytic application of helium plasma induced nan... --主査： 大野哲靖 **2020 Autumn -Yosuke Sato 佐藤陽介 (Toshiba) --Study on low-temperature atmospheric pressure plasma to... -Yoichiro Sato 佐藤陽一郎 (AGC) --レーザーによるガラス貫通電極の形成とその応用に関する研究 -Mitsuhiro Omura 大村光広 (Kioxia) --3次元メモリデバイス製造における絶縁膜のドライエッチング... -Toshiyuki Sasaki 佐々木俊行 (Kioxia) --先端LSI製造プロセスにおける塩素含有プラズマ及びフルオロ... **2020 Spring -Atsushi Tanide 谷出敦 (Screen Holdings) --GaNの新しいプラズマ成膜及びエッチングに関する研究 --Study on new plasma processes for growth and etching of... -Hiroyuki Fukumizu 福水裕之 (Kioxia) --アルミニウム化合物を用いた半導体デバイス製造における原... --Study on atomic layer process of Aluminum compounds for... **2019 Autumn -Kazunori Shinoda 篠田和典 (Hitachi) --高精度等方性エッチングとその半導体デバイス製造への応用... --Studies on precisely controlled isotropic etching and i... -Yasuhiro Isobe 磯部康裕 (Toshiba) --窒化物半導体パワーデバイスの高性能化とプラズマによる低... --Study on Performance Enhancement of GaN Power Devices a... -Woo Young Lee --Tribological properties and mechanisms of ta-C coatings... --主査： 梅原徳次 **2019 Spring -Hideshi Miyajima 宮島秀史 ((Toshiba memory)現 Kioxia) --ロジックデバイスにおける低誘電率層間絶縁膜形成プロセス... --Study on process engineering of low-k inter-layer-diele... -Naoto Kihara 木原直人 (AGC) --新規ヘルスケアデバイスのためのプラズマプロセス --Plasma processes for the healthcare devices -Yusuke Fukunaga 福永裕介 (TEL宮城 就職) --有機物のプラズマエッチングにおける表面反応とエッチング... --Study on Etched Profile Control and the Surface Reactio... -Ranjit Borude (名大 就職→ASM Japan) --錫と炭素のナノ複合材料の合成プロセスと特性評価に関する... --Synthesis and modification of carbon nanocomposite empl... -Shun Imai 今井駿 (JAXA 就職) --カーボンナノウォール複合材料の電気化学特性および燃料電... --Study on electrochemical characteristics of carbon nano... -Hirotsugu Sugiura 杉浦啓嗣 (ASM Japan 就職) --低温プラズマの内部パラメータによるアモルファスカーボン... --Control of Properties of Amorphous Carbon Thin Films by... -Masakazu Tomatsu 東松真和 --プラズマプロセスにより合成したカーボンナノウォールの表... --Study of electrochemical surface reactions on carbon n... **2018 Autumn -Nobuyuki Negishi 根岸伸幸(Hitachi) --大規模集積回路プラズマプロセスにおける微細パターン形状... --Study on control of fine patterning in ULSI plasma proc... -Itsuko Sakai 酒井伊都子((Toshiba)現 Kioxia) --超大規模集積回路製造用プラズマエッチングにおける加工形... --Study on control of etch profile in plasma etching for ... **2018 Spring -Atsushi Ando 安藤睦(東ソークォーツ　就職) --高密度プラズマプロセス中におけるカーボンナノ材料合成に... --Study on synthesis of carbon-nanomaterials in high-dens... -Yan Zhang 張彦（チョウ）(ASM Japan 就職) --大規模集積回路製造プロセスにおけるプラズマ誘起ダメージ... --Measurements and analysis of plasma induced damages on ... -Tomoki Amano 天野智貴(Panasonic 就職) --液中プラズマを用いたカーボンナノ材料の合成と燃料電池応用 --Synthesis of carbon nanomaterials by using in-liquid pl... -Yohei Takahashi 髙橋洋平(Nikon) --大気圧マイクロ波励起プラズマを用いた癌細胞選択的抗腫瘍... --Study on selective antitumor effect by atmospheric micr... -Kensuke Sasai 笹井建典(Sumitomo) --Study on production of high density microwave plasma wi... ---主査: 豊田浩孝 **2017 Spring -Zecheng Liu 劉沢鋮セイ（リュウ）（ASM Japan 就職） --次世代パワーデバイスにおける窒化ガリウムの低ダメージ加... --Study on plasma etching of GaN at high-temperature for ... -Naoyuki Kurake 倉家尚之（デンソー 就職） --非平衡大気圧プラズマ照射培養液内における 生体および化学... --Study on biomedical and chemical reactions in culture m... **2016 Autumn -Yoshinobu Ohya 大矢欣伸（TEL宮城） --半導体エッチング装置における高周波と直流の重畳印加によ... --Study on Characteristics of Fluorocarbon Gas Plasma wit... **2016 Spring -Lingyn Jia 賈凌雲（ジャ） (ASM Japan 就職→Air Liquide) --プラズマ化学気相堆積法における水素化アモルファスカーボ... --Study on structural control of hydrogenated amorphous c... **2015 Spring -Yusuke Kondo 近藤祐介（東芝就職） --ガスデザインによるフルオロカーボンプラズマ中の活性種及... --Studies on control of active species and design of gas ... -Takayoshi Tsutsumi 堤隆嘉（現名古屋大） --周波数領域型低コヒーレンス干渉を用いた基板温度制御によ... --Study on atomic-scale plasma process based on substrate... **2014 Spring -Toshiya Suzuki 鈴木俊哉 (ASM Japan 就職) --ナノメータ精度加工に向けた自律制御プラズマエッチングプ... --Studies on Plasma Etching Process Based on Autonomous C... -Hironao Shimoeda 下枝弘尚 (現JST) --ラジカルとの表面反応によるカーボンナノウォールの構造制... --Study on structural control of carbon nanowalls by surf... -Lu Yi 盧翌（ロ）(現名古屋大→東芝) --次世代窒化ガリウム系デバイスのためのプラズマ励起有機金... --Study on plasma-enhanced metal-organic chemical vapor d... -Hyung Jun Cho 趙亨峻（チョウ） (現名古屋大→東芝) --電子デバイス応用に向けたカーボンナノウォールのエッジ処... --Edge termination effects on electrical characteristics ... -林和夫 --中・高気圧放電の基礎と応用機器の性能向上に関する研究 **2013 Spring -Yusuke Abe 阿部祐介 (現東工大→産総研→カネカ) --プラズマ化学気相堆積法を用いたシリコン薄膜の作製および... --Studies on fabrication of silicon thin films using plas... -Takuya Takeuchi 竹内拓也 (イビデン就職) --反応性ビーム照射を用いたプラズマエッチングプロセス中の... --Studies on reaction kinetics of photoresist for plasma ... -Yudai Miyawaki 宮脇雄大 (名古屋大→EVG) --次世代ULSI製造プロセスにおける新規フルオロカーボンガス... --Study on highly selective dielectric film etching using... -Hitoshi Watanabe 渡邊均 (アイシン精機就職) --バイオナノ応用に向けたカーボンナノウォールの表面機能化... --Studies on surface functionalization of carbon nanowall... -Takehiro Hiraoka 平岡丈弘 (富士機械製造就職) --超短パルスレーザー技術を用いた材料プロセスに向けた実時... --Studies on real-time and high sensitive monitoring meth... **2012 Autumn -Shang Chen 陳尚（チン） (ASM Japan就職) --窒化ガリウムの成長及び不活性化における原子状ラジカルの... --Studies on the effects of radicals on growth and passiv... -Yoshiyuki Iwata 岩田義幸 (イビデン) --高密度プリント配線板技術のための非平衡大気圧プラズマの... **2012 Spring -Hiroshi Yamamoto 山本洋 (東芝→ナインシグマ) --低誘電率材料の微細パターン制御および低ダメージプラズマ... --Studies on plasma etching process of low dielectrics fo... -Arkadiusz Malinowski　(Global foundries就職) --ラジカル表面反応解析技術の開発と先進CMOS形状シミュレー... --Study of radical kinetic behavior investigation techniq... -Masanaga Fukasawa 深沢正永 (ソニー) --大規模集積回路における水素に起因したプラズマ誘起ダメー... -Hideo Tsuboi 坪井秀夫 (アルバック) --磁気中性線放電プラズマの生成・制御と微細加工への応用に... **2011 Autumn -Kei Hattori 服部圭 (東芝) --半導体デバイス製造における高精度Al合金エッチングとその... **2011 Spring -Hirotoshi Inui 乾裕俊 (ゼオン就職) --高密度大気圧非平衡プラズマを用いた表面処理に関する研究 --Studies on surface treatments using nonequilibrium high... -Tsuyoshi Yamaguchi 山口剛 (イビデン就職) --反応性プラズマの新プロセス技術と気相診断のための先進レ... --Advanced laser applications for new process technologie... -Toshitsugu Takahasi 高橋俊次 (片桐エンジ) --将来の超大規模集積回路製造における絶縁膜のための環境調... **2010 Spring -Saburo Uchida　内田三郎 --大規模集積回路プロセスにおける低誘電率膜のエッチング基... --Studies on fundamental etching reactions of low dielect... -Chang Sung Moon　文昶盛（ムン） (Samsung就職) --マイクロエレクトロニクス製造におけるエッチング及び成膜... --Studies on advanced plasma processing for etching and d... -Shingo Kondo 近藤真吾 (デンソー就職) --プラズマ化学気相堆積法により形成されたカーボンナノウォ... --Studies on growth mechanism of carbon nanowalls formed ... -Masaru Izawa 伊澤勝 (日立ハイテク) --プラズマエッチングにおける加工形状制御メカニズムの研究 **2009 Spring -Wakana Takeuchi 竹内和歌奈 (名古屋大学就職→愛工大准教授) --プラズマCVDを用いたカーボンナノウォールの作製及びそれら... --Study on synthesis of carbon nanowalls using plasma enh... **2008 Autumn -伊藤治彦 --低圧誘導結合型プラズマを用いたダイヤモンド形成と炭素原... --Study on diamond formation and behaviors of carbon atom... -Tokuhisa Oiwa 大岩徳久 (東芝→東京エレクトロン) --超大規模集積回路製造における絶縁膜のプラズマエッチング... **2008 Spring -Masahiro Iwasaki　岩崎正博 (トヨタ就職) --非平衡大気圧リモートプラズマを用いたエッチングと表面改... --Studies on etching and surface modification processing ... -Yasuhiro Hara 原安寛 (現　産総研) --低エネルギービーム源の開発とダメージレス表面改質プロセ... **2007 Spring -Keigo Takeda 竹田圭吾 (名古屋大学就職→名城大准教授) --反応性プラズマ中の活性種の診断およびナノ・マイクロ加工... --Studies on diagnostics of activated species in reactive... -Tomohiro Okumura 奥村智洋（パナソニック） --高密度プラズマ源の開発とエッチングプロセスへの応用に関... **2006 Spring -Mikio Nagai　永井幹雄 (後藤(中部大)，堀研，菅井，伊藤(和... --プラズマ診断に基づいた環境調和型エッチングプロセスに関... --Studies on environmentally harmonic etching process bas... **2005 Autumn -Kazuyasu Nishikawa 西川和康　 --低圧・高密度プラズマによるULSIエッチング技術の一研究 --A study of ULSI etching technology using low-pressure h... **2005 Spring -Koji Yamakawa 山川晃司（片桐エンジ） --マイクロ波励起非平衡大気圧プラズマ源の開発と材料プロセ... --Studies on development of microwave excited non-equilib... **2004 Spring -Takayuki Ohta 太田貴之 (後藤研，河野(教授)，堀，伊藤(和... --VHF容量結合プラズマ中の中性ラジカルにおける励起周波数の... --Studies on effect of excitation frequency on neutral ra... **2003 Spring -Hisao Nagai 永井久雄 (松下就職) --高密度プラズマを用いた低誘電率膜プロセスに関する研究 --Studies on low dielectric film process using high-densi... -Chiharu Takahashi 高橋千春（NTT） --電子および光に関する先端的デバイス作製における電子サイ... **2002 Spring -Kazushi Fujita 藤田和司（富士通就職） --Studies on plasma process employing environmentally ben... **2001 Spring -Seigou Takashima 高島成剛（当時日本レーザー→PLACIA） --Studies on Development of Measurement Technique of Abso... -村田和哉 --高密度シラン・水素プラズマによる微結晶シリコン薄膜の成... --Studies on Microcrystalline Silicon Film Growth in High... -大田裕之 --PECVD法による高誘電率ゲート絶縁膜用極薄シリコン窒化膜形... --Studies on Ultrathin Silicon Nitride Film Formation for... **1997 Spring -池田雅延 --ラジカル注入法を用いたプラズマ中のラジカル制御とダイヤ... -- Studies on control of radicals in plasma and synthesis... **1995 Spring -西沢典彦 --ファイバループミラーを用いた直交位相振幅スクイズド光の... --Studies on generation and characterization of quadratur... **1992 Spring -伊藤昌文 --レーザー近接距離センサを用いた基準位置計測法に関する研究 -板橋直志 --赤外半導体レーザー吸収分光法を用いたシラングロー放電プ... --Studies of the SiH[x] radicals in a silane glow-dischar... **1987 Spring -平松美根男 --希ガス混合希釈を用いた横方向放電励起XeClエキシマレーザ... --Studies on the transverse discharge-pumped XeCl excimer... **1986 Spring -堀勝 --X線リソグラフィにおけるプラズマプロセスに関する研究 --Studies on plasma processes for X-ray lithography

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[[Memorandum]] **2023 Spring -Naoyuki Iwata 岩田直幸 --Study on bactericidal effect of tryptophan solution irr... -Yang Liu 劉洋 --プラズマ活性化乳酸リンゲル液（PAL）中の反応メカニズム解... -夏目祥揮 --ダイバータプラズマ物性理解のための計測・解析技術の高度... --主査： 大野哲靖 **2022 Autumn -Tomonori Ichikawa 市川知範 (JAXA) --Study on the application of carbon nanowalls for cultur... **2022 Spring -大森 達夫　（三菱電機） --低気圧・高密度プラズマエッチング現象の解明とその高性能... **2021 Autumn -Quan Shi --Role of impurity deposition in the formation of silicon... --主査： 大野哲靖 **2021 Spring -今村翼 (Kioxia -> Hitachi) --先端LSI製造プロセスに置けるO2，CO2およびCOプラズマを利... -Shuangyuan FENG 馮双園 --Photocatalytic application of helium plasma induced nan... --主査： 大野哲靖 **2020 Autumn -Yosuke Sato 佐藤陽介 (Toshiba) --Study on low-temperature atmospheric pressure plasma to... -Yoichiro Sato 佐藤陽一郎 (AGC) --レーザーによるガラス貫通電極の形成とその応用に関する研究 -Mitsuhiro Omura 大村光広 (Kioxia) --3次元メモリデバイス製造における絶縁膜のドライエッチング... -Toshiyuki Sasaki 佐々木俊行 (Kioxia) --先端LSI製造プロセスにおける塩素含有プラズマ及びフルオロ... **2020 Spring -Atsushi Tanide 谷出敦 (Screen Holdings) --GaNの新しいプラズマ成膜及びエッチングに関する研究 --Study on new plasma processes for growth and etching of... -Hiroyuki Fukumizu 福水裕之 (Kioxia) --アルミニウム化合物を用いた半導体デバイス製造における原... --Study on atomic layer process of Aluminum compounds for... **2019 Autumn -Kazunori Shinoda 篠田和典 (Hitachi) --高精度等方性エッチングとその半導体デバイス製造への応用... --Studies on precisely controlled isotropic etching and i... -Yasuhiro Isobe 磯部康裕 (Toshiba) --窒化物半導体パワーデバイスの高性能化とプラズマによる低... --Study on Performance Enhancement of GaN Power Devices a... -Woo Young Lee --Tribological properties and mechanisms of ta-C coatings... --主査： 梅原徳次 **2019 Spring -Hideshi Miyajima 宮島秀史 ((Toshiba memory)現 Kioxia) --ロジックデバイスにおける低誘電率層間絶縁膜形成プロセス... --Study on process engineering of low-k inter-layer-diele... -Naoto Kihara 木原直人 (AGC) --新規ヘルスケアデバイスのためのプラズマプロセス --Plasma processes for the healthcare devices -Yusuke Fukunaga 福永裕介 (TEL宮城 就職) --有機物のプラズマエッチングにおける表面反応とエッチング... --Study on Etched Profile Control and the Surface Reactio... -Ranjit Borude (名大 就職→ASM Japan) --錫と炭素のナノ複合材料の合成プロセスと特性評価に関する... --Synthesis and modification of carbon nanocomposite empl... -Shun Imai 今井駿 (JAXA 就職) --カーボンナノウォール複合材料の電気化学特性および燃料電... --Study on electrochemical characteristics of carbon nano... -Hirotsugu Sugiura 杉浦啓嗣 (ASM Japan 就職) --低温プラズマの内部パラメータによるアモルファスカーボン... --Control of Properties of Amorphous Carbon Thin Films by... -Masakazu Tomatsu 東松真和 --プラズマプロセスにより合成したカーボンナノウォールの表... --Study of electrochemical surface reactions on carbon n... **2018 Autumn -Nobuyuki Negishi 根岸伸幸(Hitachi) --大規模集積回路プラズマプロセスにおける微細パターン形状... --Study on control of fine patterning in ULSI plasma proc... -Itsuko Sakai 酒井伊都子((Toshiba)現 Kioxia) --超大規模集積回路製造用プラズマエッチングにおける加工形... --Study on control of etch profile in plasma etching for ... **2018 Spring -Atsushi Ando 安藤睦(東ソークォーツ　就職) --高密度プラズマプロセス中におけるカーボンナノ材料合成に... --Study on synthesis of carbon-nanomaterials in high-dens... -Yan Zhang 張彦（チョウ）(ASM Japan 就職) --大規模集積回路製造プロセスにおけるプラズマ誘起ダメージ... --Measurements and analysis of plasma induced damages on ... -Tomoki Amano 天野智貴(Panasonic 就職) --液中プラズマを用いたカーボンナノ材料の合成と燃料電池応用 --Synthesis of carbon nanomaterials by using in-liquid pl... -Yohei Takahashi 髙橋洋平(Nikon) --大気圧マイクロ波励起プラズマを用いた癌細胞選択的抗腫瘍... --Study on selective antitumor effect by atmospheric micr... -Kensuke Sasai 笹井建典(Sumitomo) --Study on production of high density microwave plasma wi... ---主査: 豊田浩孝 **2017 Spring -Zecheng Liu 劉沢鋮セイ（リュウ）（ASM Japan 就職） --次世代パワーデバイスにおける窒化ガリウムの低ダメージ加... --Study on plasma etching of GaN at high-temperature for ... -Naoyuki Kurake 倉家尚之（デンソー 就職） --非平衡大気圧プラズマ照射培養液内における 生体および化学... --Study on biomedical and chemical reactions in culture m... **2016 Autumn -Yoshinobu Ohya 大矢欣伸（TEL宮城） --半導体エッチング装置における高周波と直流の重畳印加によ... --Study on Characteristics of Fluorocarbon Gas Plasma wit... **2016 Spring -Lingyn Jia 賈凌雲（ジャ） (ASM Japan 就職→Air Liquide) --プラズマ化学気相堆積法における水素化アモルファスカーボ... --Study on structural control of hydrogenated amorphous c... **2015 Spring -Yusuke Kondo 近藤祐介（東芝就職） --ガスデザインによるフルオロカーボンプラズマ中の活性種及... --Studies on control of active species and design of gas ... -Takayoshi Tsutsumi 堤隆嘉（現名古屋大） --周波数領域型低コヒーレンス干渉を用いた基板温度制御によ... --Study on atomic-scale plasma process based on substrate... **2014 Spring -Toshiya Suzuki 鈴木俊哉 (ASM Japan 就職) --ナノメータ精度加工に向けた自律制御プラズマエッチングプ... --Studies on Plasma Etching Process Based on Autonomous C... -Hironao Shimoeda 下枝弘尚 (現JST) --ラジカルとの表面反応によるカーボンナノウォールの構造制... --Study on structural control of carbon nanowalls by surf... -Lu Yi 盧翌（ロ）(現名古屋大→東芝) --次世代窒化ガリウム系デバイスのためのプラズマ励起有機金... --Study on plasma-enhanced metal-organic chemical vapor d... -Hyung Jun Cho 趙亨峻（チョウ） (現名古屋大→東芝) --電子デバイス応用に向けたカーボンナノウォールのエッジ処... --Edge termination effects on electrical characteristics ... -林和夫 --中・高気圧放電の基礎と応用機器の性能向上に関する研究 **2013 Spring -Yusuke Abe 阿部祐介 (現東工大→産総研→カネカ) --プラズマ化学気相堆積法を用いたシリコン薄膜の作製および... --Studies on fabrication of silicon thin films using plas... -Takuya Takeuchi 竹内拓也 (イビデン就職) --反応性ビーム照射を用いたプラズマエッチングプロセス中の... --Studies on reaction kinetics of photoresist for plasma ... -Yudai Miyawaki 宮脇雄大 (名古屋大→EVG) --次世代ULSI製造プロセスにおける新規フルオロカーボンガス... --Study on highly selective dielectric film etching using... -Hitoshi Watanabe 渡邊均 (アイシン精機就職) --バイオナノ応用に向けたカーボンナノウォールの表面機能化... --Studies on surface functionalization of carbon nanowall... -Takehiro Hiraoka 平岡丈弘 (富士機械製造就職) --超短パルスレーザー技術を用いた材料プロセスに向けた実時... --Studies on real-time and high sensitive monitoring meth... **2012 Autumn -Shang Chen 陳尚（チン） (ASM Japan就職) --窒化ガリウムの成長及び不活性化における原子状ラジカルの... --Studies on the effects of radicals on growth and passiv... -Yoshiyuki Iwata 岩田義幸 (イビデン) --高密度プリント配線板技術のための非平衡大気圧プラズマの... **2012 Spring -Hiroshi Yamamoto 山本洋 (東芝→ナインシグマ) --低誘電率材料の微細パターン制御および低ダメージプラズマ... --Studies on plasma etching process of low dielectrics fo... -Arkadiusz Malinowski　(Global foundries就職) --ラジカル表面反応解析技術の開発と先進CMOS形状シミュレー... --Study of radical kinetic behavior investigation techniq... -Masanaga Fukasawa 深沢正永 (ソニー) --大規模集積回路における水素に起因したプラズマ誘起ダメー... -Hideo Tsuboi 坪井秀夫 (アルバック) --磁気中性線放電プラズマの生成・制御と微細加工への応用に... **2011 Autumn -Kei Hattori 服部圭 (東芝) --半導体デバイス製造における高精度Al合金エッチングとその... **2011 Spring -Hirotoshi Inui 乾裕俊 (ゼオン就職) --高密度大気圧非平衡プラズマを用いた表面処理に関する研究 --Studies on surface treatments using nonequilibrium high... -Tsuyoshi Yamaguchi 山口剛 (イビデン就職) --反応性プラズマの新プロセス技術と気相診断のための先進レ... --Advanced laser applications for new process technologie... -Toshitsugu Takahasi 高橋俊次 (片桐エンジ) --将来の超大規模集積回路製造における絶縁膜のための環境調... **2010 Spring -Saburo Uchida　内田三郎 --大規模集積回路プロセスにおける低誘電率膜のエッチング基... --Studies on fundamental etching reactions of low dielect... -Chang Sung Moon　文昶盛（ムン） (Samsung就職) --マイクロエレクトロニクス製造におけるエッチング及び成膜... --Studies on advanced plasma processing for etching and d... -Shingo Kondo 近藤真吾 (デンソー就職) --プラズマ化学気相堆積法により形成されたカーボンナノウォ... --Studies on growth mechanism of carbon nanowalls formed ... -Masaru Izawa 伊澤勝 (日立ハイテク) --プラズマエッチングにおける加工形状制御メカニズムの研究 **2009 Spring -Wakana Takeuchi 竹内和歌奈 (名古屋大学就職→愛工大准教授) --プラズマCVDを用いたカーボンナノウォールの作製及びそれら... --Study on synthesis of carbon nanowalls using plasma enh... **2008 Autumn -伊藤治彦 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-Takayuki Ohta 太田貴之 (後藤研，河野(教授)，堀，伊藤(和... --VHF容量結合プラズマ中の中性ラジカルにおける励起周波数の... --Studies on effect of excitation frequency on neutral ra... **2003 Spring -Hisao Nagai 永井久雄 (松下就職) --高密度プラズマを用いた低誘電率膜プロセスに関する研究 --Studies on low dielectric film process using high-densi... -Chiharu Takahashi 高橋千春（NTT） --電子および光に関する先端的デバイス作製における電子サイ... **2002 Spring -Kazushi Fujita 藤田和司（富士通就職） --Studies on plasma process employing environmentally ben... **2001 Spring -Seigou Takashima 高島成剛（当時日本レーザー→PLACIA） --Studies on Development of Measurement Technique of Abso... -村田和哉 --高密度シラン・水素プラズマによる微結晶シリコン薄膜の成... --Studies on Microcrystalline Silicon Film Growth in High... -大田裕之 --PECVD法による高誘電率ゲート絶縁膜用極薄シリコン窒化膜形... --Studies on Ultrathin Silicon Nitride Film Formation for... **1997 Spring -池田雅延 --ラジカル注入法を用いたプラズマ中のラジカル制御とダイヤ... -- Studies on control of radicals in plasma and synthesis... **1995 Spring -西沢典彦 --ファイバループミラーを用いた直交位相振幅スクイズド光の... --Studies on generation and characterization of quadratur... **1992 Spring -伊藤昌文 --レーザー近接距離センサを用いた基準位置計測法に関する研究 -板橋直志 --赤外半導体レーザー吸収分光法を用いたシラングロー放電プ... --Studies of the SiH[x] radicals in a silane glow-dischar... **1987 Spring -平松美根男 --希ガス混合希釈を用いた横方向放電励起XeClエキシマレーザ... --Studies on the transverse discharge-pumped XeCl excimer... **1986 Spring -堀勝 --X線リソグラフィにおけるプラズマプロセスに関する研究 --Studies on plasma processes for X-ray lithography

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