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#author("2020-12-02T16:17:15+09:00","default:ishikawa","ishikawa")
[[FrontPage]]

[[博士論文>https://ci.nii.ac.jp/naid/500000350118]] 著者名：石川健治
-フルオロカーボンプラズマによるシリコン酸化膜エッチング表面反応解析に関する研究
-Surface reactions during silicon oxide etching using fluorocarbon plasma
-東北大学 博士 (工学) 甲第10868号 (2006年3月24日) [[要旨(pdf)>https://tohoku.repo.nii.ac.jp/?action=repository_uri&item_id=96985&file_id=18&file_no=1]], [[原稿>SiO2Etching]]


[[堀研修士論文]], [[堀研博士論文]]

[[研究ハイライト>Highlights]]

[[グロー放電について>GlowDischarge]]

[[電子物性>Electronics]]

[[数式>math_typesetting]]