第5回プラズマナノ工学スクール

プラズマプロセスの基礎講義と実践的なプラズマ計測実習

プログラム


9:20-9:30

御挨拶

9:30-10:50

 プロセスプラズマの基礎とプラズマ生成法

名古屋大学   豊田浩孝 教授
講演概要:プラズマによる材料プロセスには,低圧力から大気圧まで様々な反応性ガスによる多彩な放電形式と放電周波数のプラズマが用いられている。この講義では,プラズマの発生・消滅,エネルギー授受の物理過程を基礎的にわかりやすく説明するとともに、代表的な各種プラズマの生成法を系統的に解説する

10:50-12:10

 大気圧プラズマの生成と物理

名古屋大学   河野明廣 教授
講演概要:大気圧(高気圧)におけるプラズマ生成やプラズマの特性は低圧プラズマの場合とどのように異なるか,これを支配する基本的な物理的背景について概説する。また, 筆者らの調べているマイクロ波励起大気圧マイクロプラズマについて,その特徴や基本的なプラズマパラメータの測計測結果をのべ,特に非平衡大気圧プラズマの生成 を理解する一助とする。

12:10-13:20 

昼食/質問タイム

13:20-14:40

 プラズマ計測の基礎

中部大学   中村圭二 教授
  講演概要:本講演では、プロセスプラズマの挙動を特徴づける「電子密度」や「中性ラジカル密度」のモニタに用いられる各種手法を取り上げる。主に、最も基本 的な「ラングミュアプローブ」、プロセスプラズマに幅広く適用できる「表面波プローブ」に加え、量産現場でもよく用いられる「発光分光法」に焦点 を当て、その動作原理、密度導出法および利用上の留意点等を解説する。またプロセスプラズマのモニタリング例についても紹介する。

14:40-16:00

気相と表面における化学反応素過程

名古屋大学   林俊雄 教授
  講演概要:低圧プロセスプラズマの主とした反応は電子による付着解離、励起解離、イオン化解離である。これらの解離がどのように起るかを量子化学計算結果を元に示す。特にエッチングの基本となるガス種としてCF4, C2F6,C3F8,C4F8を取り上げ、その解離過程を説明する。その他のガス種の解離についても言及する。また、圧力の高い領域で行われるchemical dry etchingではプラズマによって解離した原子と解離していない分子との反応が大きな意味を持ってくる。この反応によってエッチャントがどのように生成されるかを説明する。

16:00-16:40 

コーヒーブレイク/質問タイム+会場移動


16:40-17:40

プラズマ計測実習


グループ
(担当者名)
Aグループ
(名大 石島達夫 助教)
Bグループ
(名大 林俊雄 教授)
Cグループ
(名大 竹田圭吾 助教)
Dグループ
(名大 荒巻光利 助教)
Eグループ
(名城大 大田貴之 准教授)
テーマ名 プローブ計測 質量分析計測 大気圧プラズマ 発光分光分析 基板温度計測

【プラズマ計測実習内容】
実習題目:Aグループ.プラズマ計測の基礎 (名古屋大学 石島達夫 助教)
実習概要:ラングミュアプローブ、表面波プローブ(プラズマ吸収プローブ)の製作方法、測定方法について、分かりやすく説明するとともに、表面波プローブを用いた実際のプラズマ中の電子密度計測をリアルタイムで行う等、実践的な実習を行う

実演題目: Bグループ.質量分析による測定 (名古屋大学 林俊雄 教授)
実演概要: 質量分析を用いることによって、@プラズマ中のイオン種、Aプラズマ中のラジカル種、Bプラズマ中の負イオン、C基板表面で形成される負イオン、Dプラズマ中の中性分子種、の測定ができる。この測定法について概説するとともに、上記のいずれかの測定を実演する。

実習題目:Cグループ.大気圧プラズマ (名古屋大学 竹田圭吾 助教)
実習概要:大気圧非平衡プラズマを用いた材料処理や、プラズマ気相診断によるメカニズム解明の実例について紹介するとともに、大気圧プラズマの気相計測技術の説明を行う。実習では、大気圧非平衡プラズマを用いたガラス表面のクリーニングと、簡便なガス温度計測装置などによるプラズマモニタリングを行う。

実習題目:Dグループ.発光分光分析 (名古屋大学 荒巻光利 助教)
実習概要:発光分光は受動的なプラズマ計測法であり、プラズマを乱さないと言う特徴がある。また、特殊な実験技術を必要としないため光計測の初心者にも適した計測法である。しかしながら、得られた分光データの解釈にはプラズマ内部の素過程に関する知識が必要とされる。講習では、発光分光に用いる機材、および解析手法について簡単に説明する。

実習題目:Eグループ.光干渉技術を用いた先進ウエハ温度計測 (名城大学 大田貴之 准教授)
実習概要:熱電対や蛍光温度計の原理などの従来ウエハ温度計測技術の紹介を行うとともに,光干渉技術を用いた非接触Siウエハ温度計測技術の紹介と低圧プラズマ装置での温度計測の実習を行う.(実習A-Dが確立された基礎的な手法を紹介するのに対し,実習Eでは研究推進中の先端的手法を紹介する.)


*各グループ先着20名様に限定させて頂きます。
*第3希望まで選択して頂き、希望者多数のグループについては調整いたします。

スクール参加費:
一般30,000円、学生3,000円
(但し、計測実習に関しては一般の受講希望者を優先しますので学生の方は受講できない場合があります)


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