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• Blog20220403 へ行く。
  • 1 (2022-04-03 (日) 10:04:47)

#author("2022-04-03T10:04:47+09:00","default:ishikawa","ishikawa")
[[Blogs]]

**理研

使っている装置：water vapor plasma (Aqua Plasma Cleaner AQ-500, Samco Inc.) under the following conditions: 50 W of plasma power, 12 sccm (standard cubic centimeters per minute) of gas flow, 40 s of plasma treatment time, and 10 Pa of pressure.　↑水蒸気


[[(Web RIKEN):https://www.riken.jp/en/news_pubs/research_news/pr/2021/20211223_1/]]

[[(Web Journal):https://www.science.org/doi/10.1126/sciadv.abl6228]]

**産総研　松前貴司

OH終端化，表面平坦性の維持，低汚染
硫酸・過酸化水素，アンモニア・過酸化水素水で大気圧低温接合

**大阪市大　重川直輝

Surface activated bonding （須賀）　Arビーム照射後，常温で荷重