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• SiO2Etch へ行く。
  • 1 (2020-12-04 (金) 16:45:31)
  • 2 (2020-12-04 (金) 20:05:31)
  • 3 (2020-12-04 (金) 20:45:14)

#author("2020-12-04T16:45:31+09:00","default:ishikawa","ishikawa")
[[Memorandum]]

[[博士論文>https://ci.nii.ac.jp/naid/500000350118]] 著者名：石川健治
-フルオロカーボンプラズマによるシリコン酸化膜エッチング表面反応解析に関する研究
-東北大学 博士 (工学) 甲第10868号 (2006年3月24日) [[要旨(pdf)>https://tohoku.repo.nii.ac.jp/?action=repository_uri&item_id=96985&file_id=18&file_no=1]]

-- [[序論>SiO2Etching2]], [[手法>SiO2Etching3]], [[第3章>SiO2Etching4]], [[第4章>SiO2Etching5]], [[結論>SiO2Etching6]], [[付録>SiO2Etching7]]
-Surface reactions during silicon oxide etching using fluorocarbon plasma
--[[Abstract>SiO2Etching]],

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