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2026

2026年第73回応用物理学会春季学術講演会 東京科学大学大岡山キャンパス　2026年3月15日～18日

• [17p-M_103-1] CF3CH2CF3分子の電子物性と解離
  • 林 俊雄、石川 健治、関根 誠、堀 勝
    • 2026年3月17日(火) 14:00 〜 14:15 M_103 (本館)
• [17p-M_103-2] CF3CHFCHF2分子の電子物性と解離
  • 林 俊雄、石川 健治、関根 誠、堀 勝
    • 2026年3月17日(火) 114:15 〜 14:30 M_103 (本館)
• [17p-M_103-5] 水素化アモルファスカーボン膜の真性応力生成メカニズムのデータ駆動型解析
  • 安藤 悠介、Li Hu、Zhao Jianping、松隈 正明、Ventzek Peter、''石川 健治
    • 2026年3月17日(火) 15:00 〜 15:15 M_103 (本館)
• [18a-PB4-11] 塩素ラジカルによる窒化チタン熱サイクル原子層エッチング後の残留塩素への水素ラジカル照射効果のin-situ表面反応解析
  • 平井 俊也、篠田 和典、グエン ティ トゥイ ガー、堤 隆嘉、井上 健一、石川 健治
    • 2026年3月18日(水) 11:30 〜 13:00 PB4 (武道場 (B1F))
• [15p-M_107-6] 同位体標識を用いた酸素ラジカルとトリプトファン間の反応経路の解析
  • 北川 大慈、江藤 高志、Cameria Miron、近藤 隆、田中 宏昌、石川 健治、堀 勝、伊藤 昌文
    • 2026年3月15日(日)15:15 〜 15:30 M_107 (本館)
• [15p-M_107-9] プラズマ照射により誘起される液相中一酸化窒素ラジカルの逐次生成機構解析
  • 山川 太嗣、井上 健一、石川 健治、堀 勝、田中 宏昌
    • 2026年3月15日(日) 16:15 〜 16:30 M_107 (本館)
• [15p-M_107-10] プラズマ活性乳酸リンゲル液の複数回処理によるMCF-7細胞の抗酸化遺伝子の発現量変化
  • 若司 瞭、田中 文子、ミロン キャメリア、中村 香江、石川 健治、堀 勝、田中 宏昌
    • 2026年3月15日(日) 16:30 〜 16:45 M_107 (本館)
• [15p-M_107-11] PAL内活性有機物に対する細胞応答
  • 青山 哲也、Miron Camelia、勝又 優子、石川 健治、堀 勝、田中 宏昌
    • 2026年3月15日(日) 16:45 〜 17:00 M_107 (本館)
• [15p-M_107-13] 酸素ラジカル処理Trp溶液による細胞増殖促進効果の細胞種依存性
  • 江藤 高志、北川 大慈、野呂 脩皓、田中 宏昌、石川 健治、堀 勝、伊藤 昌文
    • 2026年3月15日(日) 17:15 〜 17:30 M_107 (本館)
• [17a-S2_201-10] CF4/H2プラズマ照射がSiおよびSi0.7Ge0.3の表面反応に及ぼす影響
  • 佐分利 伊吹、尾崎 孝太朗、今井 友貴、堤 隆嘉、石川 健治、Yamamoto Yuji、Wen Wei-Chen、牧原 克典
    • 2026年3月17日(火) 11:45 〜 12:00 S2_201 (南2号館)
• [17a-S2_201-11] エピタキシャル成長した Si0.7Ge0.3 薄膜における HBr プラズマによるドライエッチング
  • 石井 聡太、尾崎 孝太郎、矢野 瑛汰、佐分利 伊吹、今井 友貴、堤 隆嘉、石川 健治、Yamamoto Yuji、Wen Wei-Chen、牧原 克典
    • 2026年3月17日(火) 12:00 〜 12:15 S2_201 (南2号館)
• [15p-W8E_307-8] イオンビームを用いたビニルシランによるSiC の低温成膜
  • 小野 浩毅、堤 隆嘉、石川 健治、竹内 和歌奈、上原 賢一、安原 重雄、堀 勝、田中 宏昌
    • 2026年3月15日(日) 15:15 〜 15:30 W8E_307 (西8号館)
• [16p-M_374-8] プラズマ活性水による種子発芽制御と農業利用への可能性
  • 氏家 凜乃、西村 駿佑、井上 健一、石川 健治、中林 一美
    • 2026年3月16日(月) 16:50 〜 17:20 M_374 (本館)

関連

• [15p-M_107-4] 酸素ラジカル活性化界面活性剤の殺菌における分子構造依存性
  • 後藤 颯哉、道山 大智、橋爪 博司、田中 宏昌、堀 勝、伊藤 昌文
    • 2026年3月15日(日) 16:50 〜 17:20 M_107 (本館)
• [15p-M_107-5] プラズマ活性化溶液を用いたイネ幼苗の成長促進効果の検討
  • 橋爪 博司、阿部 明子、水野 寛子、勝又 優子、柴田 由希、ミロン カメリア、湯浅 元気、東野 里江、田中 宏昌、廣末 庸治、北野 英己、前島 正義、齋藤 邦彰、榊原 均、水野 正明、堀 勝
    • 2026年3月15日(日) 15:00 〜 15:15 M_107 (本館)
• [15p-M_107-12] プラズマ活性化乳酸リンゲル液による乳がん細胞の選択的不活性化に おけるラジカルの影響
  • 野呂 脩皓、山本 航大、田中 宏昌、堀 勝、伊藤 昌文
    • 2026年3月15日(日) 17:00 〜 17:15 M_107 (本館)
• [16p-W9_324-4] Epitaxial Growth of Gallium Oxide (1): High-Density Oxygen Radical Source (HD-ORS) for MBE and PVD
  • Michael Mo, Arun Kumar Dhasiyan, Nikolay Britun, Naohiro Shimizu, Osamu Oda, Masaru Hori
    • 2026年3月16日(月) 14:30 〜 14:45 W9_324 (西9号館)
• [16p-W9_324-5] Epitaxial Growth of Gallium Oxide (2): Homoepitaxial Growth of β-Ga2O3 on Sn-doped Ga2O3 Substrates Using a Novel High-Density Oxygen Radical Source (HD-ORS) for MBE
  • ArunKumar Dhasiyan, Tomoki Takeda, Naofumi Kato, Naohiro Shimizu, Osamu Oda, Masaru Hori
    • 2026年3月15日(日) 14:45 〜 15:00 M_107 (本館)
• [16p-W9_324-6] 酸化ガリウムのエピタキシャル成長 (3):高密度酸素ラジカル源(HD-ORS)を用いた物理蒸着法(PVD)によるSnドープGa₂O₃基板上での β‑Ga₂O₃のホモエピタキシャル成長
  • 武田 友樹、加藤 尚文、Dhasiyan Arun Kumar、清水 尚博、小田 修、堀 勝
    • 2026年3月16日(月) 15:15 〜 15:30 W9_324 (西9号館)
• [16p-W9_324-7] 酸化ガリウムのエピタキシャル成長 (4):Si基板の酸化防止のためのウェットエッチングとラングミュア吸着（エピタキシャル成長前処理）
  • 小田 修、Dhasiyan Arun Kumar、武田 友樹、加藤 尚文、清水 尚博、堀 勝
    • 2026年3月16日(月) 15:30 〜 15:45 W9_324 (西9号館)
• [16p-W9_324-8] Epitaxial Growth of Gallium Oxide (5): Hetero-Epitaxial Growth of Ga2O3 on Si (100) Substrates
  • ArunKumar Dhasiyan, Tomoki Takeda, Naofumi Kato, Naohiro Shimizu, Osamu Oda, Masaru Hori
    • 2026年3月16日(月) 15:45 〜 16:00 W9_324 (西9号館)
• [16p-W9_324-9] 酸化ガリウムのエピタキシャル成長 (6):p型Ga系半導体の創成におけるNiOドープ拡散層の考察
  • 清水 尚博、Dhasiyan Arun Kumar、小田 修、五十嵐 信行、堀 勝
    • 2026年3月16日(月) 16:00 〜 16:15 W9_324 (西9号館)

2026年第87回応用物理学会秋季学術講演会 北海道大学　2026年9月8日～11日

• [8a-B11-12] 液中プラズマ処理した六方晶窒化ホウ素における反応サイトの定量
  • 井上 健一、高木 直人、伊藤 剛仁、清水 禎樹、伯田 幸也、伊藤 耕三、石川 健治、堀 勝、寺嶋 和夫
    • 2026年9月8日(火) 12:00 〜 12:15 B11 (工学部 B棟)
• [8a-B11-13] 電子スピン共鳴法によるポリロタキサン/プラズマ表面改質六方晶窒化ホウ素コンポジット内フィラー配向評価
  • 長谷川 瑠偉、井上 健一、伊藤 剛仁、宗岡 均、保田 侑亮、桐原 和大、清水 禎樹、伯田 幸也、石川 健治、堀 勝、伊藤 耕三、寺嶋 和夫
    • 2026年9月8日(火) 12:15 〜 12:30 B11 (工学部 B棟)
• [8p-B11-6] 電子線支援 GaN 表面フッ化改質の電子線エネルギー依存性
  • 島津 大隼、堤 隆嘉、関根 誠、井上 健一、石川 健治
    • 2026年9月8日(火) 15:15 〜 15:30 B11 (工学部 B棟)
• [8p-B11-7] Si/SiGe の選択的等方性エッチングのための SiGe 表面における酸素ラジカルの反応特性調査
  • 岩田 大和1、堤 隆嘉、牧原 克典、Yamamoto Yuji、石川 健治
    • 2026年9月8日(火) 15:45 〜 16:00 B11 (工学部 B棟)
• [8p-B11-9] 再配線層応用に向けたポリイミドのドライエッチング特性の解析
  • 細田 凌我、栗田 洋一郎、井上 健一、堤 隆嘉、石川 健治
    • 2026年9月8日(火) 16:15 〜 16:30 B11 (工学部 B棟)
• [8p-B11-11] CHF2CHFCHF2の電子物性と解離特性
  • 林 俊雄、石川 健治、関根 誠、堀 勝
    • 2026年9月8日(火) 16:45 〜 17:00 B11 (工学部 B棟)
• [8p-B11-12] CHF2CF2CH2F分子の電子物性と解離
  • 林 俊雄、石川 健治、関根 誠、堀 勝
    • 2026年9月8日(火) 17:00 〜 17:15 B11 (工学部 B棟)
• [9a-PB2-15] SiエッチングにおけるSF6/O2プラズマの活性種バランスの動的制御
  • 河野 伊吹、土岡 柊斗、井上 健一、堤 隆嘉、石川 健治
    2026年9月9日(水) 9:00 〜 10:30 PB2 (第2体育館)
• [8p-E311-4] 酸素ラジカル処理トリプトファン誘導体溶液の細胞増殖促進効果及び細胞内への取込み
  • 江藤 高志、北川 大慈、田中 宏昌、石川 健治、堀 勝、伊藤 昌文
    • 2026年9月8日(火) 14:15 〜 14:30 E311 (総合教育棟 E棟)
• [8p-E311-9] PAL 由来活性有機物混合処理による乳がん細胞の生存率および 細胞内応答解析
  • 青山 哲也、Miron Camelia、石川 健治、堀 勝、田中 宏昌
    • 2026年9月8日(火) 15:45 〜 16:00 E311 (総合教育棟 E棟)
• [8p-E311-10] プラズマ誘起 N'-formyl kynurenine の中性pH環境下での持続型殺菌とその細胞及び植物への新たな展開
  • 北川 大慈、江藤 高志、橋爪 博司、近藤 隆、田中 宏昌、堀 勝、伊藤 昌文、石川 健治
    2026年9月8日(火) 16:00 〜 16:15 E311 (総合教育棟 E棟)
• [8p-E311-19] 大気圧プラズマ照射されたイネ種子におけるラジカルの局在特性：もみ殻およびセルロースの ESR 解析
  • 伊藤 輝喜、橋爪 博司、井上 健一、近藤 隆、石川 健治、堀 勝、田中 宏昌
    2026年9月8日(火) 18:30 〜 18:45 E311 (総合教育棟 E棟)
• [9p-B31-2] 活性種計測と機械学習が拓くカーボンナノ材料形成機構の理解
  • 近藤 博基、安藤 悠介、上岡 直樹、石川 健治、堤 隆嘉、堀 勝、平松 美根男、松尾 豊
    • 2026年9月9日(水) 13:40 〜 14:10 B31 (工学部 B棟)
• [10p-E310-2] 半導体プロセスにおける低温プラズマの技術課題と今後の流れ
  • 石川 健治、榊田 創
    • 2026年9月10日(木) 13:35 〜 14:05 E310 (総合教育棟 E棟)
• [10p-E310-4] HFプラズマによる窒化膜のクライオエッチング機構の解明
  • 蕭 世男、今井 祐輔、関根 誠、須田 隆太郎、木原 嘉英、石川 健治、堀 勝
    • 2026年9月10日(木) 14:35 〜 14:50 E310 (総合教育棟 E棟)
• [9p-E301-9] 大気圧プラズマ照射によるアルテミアの栄養価に与える影響とその機構解明
  • 藤田 力丸、石川 健治、橋爪 博司、堀 勝、秋山 真一、田中 宏昌
    • 2026年9月9日(水) 18:05 〜 18:20 E301 (総合教育棟 E棟)

関連

• [8p-E311-3] 大気圧空気グロープラズマ活性化乳酸リンゲル液による乳がん細胞の選択的不活性化効果
  • 野呂 脩皓、鈴置 一仁、村田 富保、Miron Camelia、田中 宏昌、堀 勝、伊藤 昌文
    • 2026年9月8日(火) 14:00 〜 14:15 E311
• [8p-E311-11] 殺菌効果を有する酸素ラジカル活性化界面活性剤溶液の構造解析
  • 後藤 颯哉、橋爪 博司、田中 宏昌、堀 勝、伊藤 昌文
    • 2026年9月8日(火) 16:15 〜 16:30 E311
• [9a-PB3-4] 酒米品種イネ幼苗に対するプラズマ活性化溶液処理による玄米高品質化
  • 橋爪 博司、柴田 由希、勝又 優子、湯浅 元気、東野 里江、北野 英己、田中 宏昌、廣末 庸治、榊原 均、前島 正義、齋藤 邦彰、水野 正明、堀 勝
    • 2026年9月9日(水) 9:00 〜 10:30 PB3 (第2体育館)
• [11p-A31-8] 高残留応力DLC膜を利用したTi/基板界面の密着性評価
  • 中田 淳紀、上坂 裕之、飯田 民夫、羽渕 仁恵、宮内 悠、宝泉 俊寛、Artit Chingsungnoen、Phitsanu Poolcharuansin、吉川 恭平、酒井 純、伊東 佑真、堀 勝、針谷 達
    • 2026年9月11日(金) 16:00 〜 16:15 A31
• [8p-B11-2] 酸化膜プラズマエッチング～イオン種、保護膜とダメージ緩和～
  • 布村 正太、今井 祐輔、HSIAO Shih-Nan、堤 隆嘉、堀 勝
    • 2026年9月8日(火) 14:15 〜 14:30 B11

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