ナノプロセス工学特論

ナノプロセス工学特論(2018)

1.　ナノプロセス工学概説
基礎
2.　拡散・酸化・結晶成長（MOSダイオード）
3.　製膜（化学気相成長（CVD））（MOSメモリ，DRAM）
4.　製膜（物理気相製膜（PVD））・イオン注入（バイポーラトランジスタ）
5.　リソ，エッチング，洗浄
応用
6.　製膜プラズマCVD　（CMOS）
7.　プラズマエッチング（気相反応）（3-NAND）
8.　　〃　　　　　　　（表面反応）
9.　先端リソ・ダブルパターニング
10. ウェット・洗浄（電気機械システム(MEMS)，CMOSイメージセンサ）
11. メッキ・化学機械研磨（CMP）（多層配線，配線信頼性）
12. 計測・プロセスコントロール
最先端
13. 自己組織化（分子マシン）
14. 情報熱力学（シラードエンジン）
15. 脳とコンピュータ　（ニューロモフィックデバイス）

ナノプロセス工学特論(2016)

特別講義

分子生物学（田中宏昌先生）
誘電体（水野彰先生）

IEDM 2016紹介

何かデバイスを想定して具体的な作製方法を考えてみよう
・大気中の微粒子の静電作用を利用して測定するデバイス
・UV-LEDをもちいた小型殺菌システム
・有機電界効果型圧力センサマトリクスの人工皮膚
・筋肉の支持・強化する人口筋肉スーツ
・生体データ取得ナノチップを使用したウェアラブルデバイス
・人体に貼れるウェラブルデバイスとしての体温センサ
・スーパー電池＋体内発電機能をもつペースメーカー
・居眠り運転警告＆急病時緊急停止用途のセンシングカメラ
・生体内埋込型CNT抵抗変化センサデバイス・心筋センサ
・センシング可能なCNT薄膜トランジスタ
・フレキシブルで埋め込み可能な自己発電型ドーパミン・CNTセンサ
・GaNを用いた電力変換器(インバータ)
・トンネル電界効果トランジスタ
・水素終端ダイヤモンド電界効果トランジスタ
・血中がん細胞を迅速に測定する多孔デバイス
・回折格子
・微小なトンネル構造

ナノプロセス工学特論(2014)

IEDM 2014紹介
- Intel, IBM finFET 14nm

何かデバイスを想定して具体的な作製方法を考えてみよう

農業用ナノチップ－カプセル分散、CNT上プローブ分子
–血管内循環チップ－メガネ・コンタクトレンズ近赤外検出、溶解・排泄される材料
–体内埋込フィルター－光電効果で電着作用
高空間分解能X線検出器
ディジタルイメージング・バイオニックアイ（人工視覚）
DNA合成

ナノプロセス工学特論(2012)

IEDM 2012紹介
- Intel, IBM 22nm Trigate (finFET)
- TSMC Ge finFET
- Gate-all-around (GAA)構造

デバイスを創造する

トランジスタスイッチの限界(計算効率，メモリの限界)
二端子素子　メモリスタの作製
分子コンピューティング
セルラーオートマトン

ナノプロセス工学特論(旧)

1. ナノプロセス工学とは何か？ナノスケールとは
2. デバイス作製の実例　まずプロセスをみてみよう
　トランジスタと配線　回路技術・ULSI設計技術との結びつき
　マイクロ電子機械システム(MEMS)
　健康診断デバイス
　コラム：生物学
3. 酸化・拡散プロセス
　コラム：電界効果（MOS）デバイスとナノポアDNAシーケンシング
4. 製膜　熱化学気相成長、物理スパッタ
　絶縁物、半導体、金属　材料の膜付け
　コラム：太陽電池
5. 加工　ウェットエッチング、プラズマエッチング
　物理スパッタ、側壁保護、反応性イオンエッチング
　プラズマ物理・シース物理による理解
　反応工学　平衡支配と速度論支配
　プラズマ化学シミュレーションと分子動力学表面反応解析
　コラム：ナノ分析
6. リソグラフィー　高分子光化学、光学
7. ウェットプロセス　化学機械研磨、メッキ、自己組織化
　非線形力学、非平衡熱統計力学
　コラム：DNAオリガミ
8. リスクや社会的影響をどう考えるか？
9. 新たなデバイスやプロセッシングを創造する。
10. まとめ

Last-modified: 2020-11-30 (月) 16:04:38