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特許 

米国9件 韓国4件 日本38件

米国特許

  • 1. 特許(米国)US 5,595,916号
    • Silicon oxide film evaluation method
      • Shuzo Fujimura, Hiroki Ogawa, Kenji Ishikawa, and Carlos Inomata
  • 2. 特許(米国)・US7,612,400号
    • MIM device and electronic apparatus
      • Teruo Kurahashi, Hideharu Shido, Kenji Ishikawa, Takeo Nagata, Yasuyoshi Mishima, and Yukie Sakita
  • 3. 特許(米国)・US7,679,144号 (2010/3/16) (公開US2008-0061445)
    • Semiconductor device and method for manufacturing the same
      • Hiroshi Kudo, and Kenji Ishikawa
  • 4. 特許(米国)・US7,709,394号(2010/5/4) (公開US2007-0224725)
    • Substrate processing method and apparatus, fabrication process of a semiconductor device
      • Hidenori Miyoshi, Kenji Ishikawa, Yukio Takigawa, Yoshihiro Nakata, and Hideki Tateishi
  • 5. 特許(米国)US7,968,466号(2011/6/28) (公開US2008-0124933)
    • Fabrication process of a semiconductor device
      • Kenji Ishikawa, Hideharu Shido, Takeo Nagata, Teruo Kurahashi, and Yasuyoshi Mishima
  • 6. 特許(米国)US9,773,667 (2017/9/26) 公開 US 20150140788 A1 (2015/3/21) 出願 US 14/548,121 (2014/11/19) 日本 2013-239590 (2013/11/20)
    • Apparatus and method for producing group III nitride semiconductor device and method for producing semiconductor wafer
      • Masaru Hori, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Osamu Oda
  • 7. 特許(米国)US10,325,781号(2019/6/18) 公開 US 20180076051 A1 (2018/3/15) 出願 US 15/698,823 (2017/9/8) 日本 2016-176198 (2016/9/9)
    • Etching method and etching apparatus
      • Kazunori Shinoda, Satoshi Sakai, Masaru Izawa, Nobuya Miyoshi, Hiroyuki Kobayashi, Yutaka Kouzuma, Kenji Ishikawa, Masaru Hori
  • 8. 特許(米国)US10,418,254号(2019/9/17) 公開 US 20190067032 A1 (2019/2/28) 出願 US 15/906,862 (2018/2/27) 日本 2017-159969 (2017/8/23)
    • Etching method and etching apparatus
      • Kazunori Shinoda, Naoyuki Kofuji, Hiroyuki Kobayashi, Nobuya Miyoshi, Kohei Kawamura, Masaru Izawa, Kenji Ishikawa, Masaru Hori
  • 9. 特許(米国)US10,481,169号(2019/11/19) 公開 US US 20180246129 A1 (2018/8/30) 出願 US 15/906,032 (2018/2/27) 日本 2017-036997 (2017/2/28)
    • Diagnostic method and biomarker for lifestyle disease
      • Koji Uchida, Takahiro Shibata, Kenji Ishikawa, Oi Lun Helena Li, Tadashi Matsushita, Ryosuke Kikuchi, Junzo Ukai
  • X. 特許(米国)US2015056381-A1 (2015/2/26)
    • Formation of electroconductive film involves forming a precursor containing film having metal microparticle or metallic compound and organic substance on base material, and irradiating plasma of process gas in the precursor containing film
      • Masaru Hori, Hirotaka Toyoda, Makoto Sekine, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Yusuke Kubota, Hiroshi Ito, Hidenori Miyoshi

その他海外特許

  • 1. 特許(韓国)10-0847917
    • Substrate processing method and apparatus, fabrication process of a semiconductor device
      • Hidenori Miyoshi, Kenji Ishikawa, Yukio Takigawa, Yoshihiro Nakata, and Hideki Tateishi
  • 2. 特許(韓国)・KR10-0915360
    • Fabrication process of a semiconductor device
      • Kenji Ishikawa, Hideharu Shido, Takeo Nagata, Teruo Kurahashi, and Yasuyoshi Mishima
  • 3. 特許(韓国)・KR10-0944192
    • MIM device and electronic apparatus
      • Teruo Kurahashi, Hideharu Shido, Kenji Ishikawa, Takeo Nagata, Yasuyoshi Mishima, and Yukie Sakita
  • 4. 特許(韓国)・KR2014130134-A
    • Formation of electroconductive film involves forming a precursor containing film having metal microparticle or metallic compound and organic substance on base material, and irradiating plasma of process gas in the precursor containing film
      • Masaru Hori, Hirotaka Toyoda, Makoto Sekine, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, Kenji Ishikawa, Yusuke Kubota, Hiroshi Ito, Hidenori Miyoshi

国内特許

  • 1. 特許3,326,717号
    • 半導体装置の製造方法
      • 中西俊郎、石川健治
  • 2. 特許3,326,718号
    • 半導体装置の製造方法
      • 中西俊郎、石川健治
  • 3. 特許3,452,629号
    • シリコン酸化膜の評価方法及び装置、ならびに半導体装置の製造方法及び装置
      • 石川健治、藤村修三、小川洋輝、猪股カルロス
  • 4. 特許3,670,336号
    • シリコン基板の評価方法及び装置、シリコン酸化膜の評価方法及び装置、並びに半導体装置の製造方法及び装置
      • 石川健治、藤村修三、堀池靖浩、押田澄子、鈴木腕
  • 5. 特許3,816,440号 公開2003-203957 出願2002-380456 (1993/3/29)
    • シリコン酸化膜の評価方法及び半導体装置の製造方法
      • 石川健治、藤村修三、小川洋輝、猪股カルロス
  • 6. 特許3,844,770号 公開2005-229125 出願2005-70606 (2005/3/14)
    • シリコン基板の評価方法及び装置、シリコン酸化膜の評価方法及び装置、並びに半導体装置の製造方法及び装置
      • 石川健治、藤村修三、堀池靖浩、押田澄子、鈴木腕
  • 7. 特許4,283,189号 公開2006-73714 出願2004-254136 (2004/9/1)
    • 半導体装置の製造方法
      • 林雅一、石川健治
  • 8. 特許4,364,669号 公開2005-236144 出願2004-45252 (2004/2/20)
    • ドライエッチング方法
      • 石川健治、林雅一、柳下皓男、西川伸之
  • 9. 特許4,489,059号 公開2006-332690 出願2006-195659 (2006/7/18)
    • シリコン基板の評価方法及び装置、シリコン酸化膜の評価方法及び装置、並びに半導体装置の製造方法及び装置
      • 石川健治、藤村修三、堀池靖浩、押田澄子、鈴木腕
  • 10. 特許4,810,355号 公開2008-53456 出願2006-228125 (2006/8/24)
    • 処理ガス供給方法、基板処理方法、半導装置の製造方法、処理ガス供給装置、基板処理装置、および記録媒体
      • 石川健治、三好秀典、立石秀樹、林雅一、西川伸之
  • 11. 特許4,828,451号 公開2007-294879 出願2007-45748 (2007/2/26 優先 2006/3/27)
    • 基板処理方法、半導体装置の製造方法および基板処理装置
      • 三好秀典、石川健治、瀧川幸雄、中田義弘、立石秀樹
  • 12. 特許4,846,721号((特許公開(PCT)・WO2006/120739) 特願2007-526729 (2005/5/11)
    • Semiconductor device and method for manufacturing the same
      • Hiroshi Kudo, and Kenji Ishikawa
  • 13. 特許4,863,752号 (2011/11/18) 公開2007-273891 出願2006-100583
    • 半導体装置および半導体装置の製造方法
      • 工藤寛、石川健治
  • 14. 特許5,055,980 (2012/8/10) 特許公開2008-140793 出願2006-322463 (2006/11/29)
    • 電子装置の製造方法および半導体装置の製造方法
      • 石川健治、志度秀治、永田武雄、倉橋輝雄、三好康由
  • 15. 特許5,114,968(2012/10/26) 特許公開2008-205168 出願2007-39191 (2007/2/20)
    • 半導体装置及びその製造方法
      • 石川健治
  • 16. 特許5,200,369 (2013/2/22) 特許公開2008-1409077 出願2006-324420 (2006/11/30)
    • 電子装置およびその製造方法
      • 倉橋輝雄、志度秀治、石川健治、永田武雄、三好康由、崎田幸恵
  • 17. 特許5,259,125 (2013/5/2) 特許公開2008-78618 出願2007-149614 (2007/6/5 優先 2006/8/24)
    • 基板処理方法、半導体装置の製造方法、基板処理装置および記録媒体
      • 三好秀典、石川健治、立石秀樹、林雅一、西川伸之
  • 18. 特許5,266,632 (2013/5/17) 特許公開2008-140790 出願2006-322457 (2006/11/29)
    • MIM素子および電子装置
      • 倉橋輝雄、志度秀治、石川健治、永田武雄、三好康由、崎田幸恵
  • 19. 特許5,481,547 (2014/2/21) 特開2013-33996 (2013/2/14) 特願2012-232362 (2012/10/19)
    • 金属付着物の除去方法、基板処理装置、および記録媒体
      • 三好秀典、石川健治、立石秀樹、林雅一、西川伸之
  • 20. 特許5,516,587 (2014/4/11) PCT/JP2009/003862 (WO2011/018822) (2013/1/17) 出願2011-526643 (2001/8/11)
    • 半導体装置の製造方法
      • 石川健治
  • 21. 特許5,700,397 (2015/2/27) 特許公開2012-035364(平成24年2月23日) 出願2010-177455 (2010/8/6)
    • ナノ微粒子を坦持したナノ構造体及びその製造方法
      • 堀勝,関根誠,石川健治,近藤博基,鈴木俊哉
  • 22. 特許5,754,579 (2015/6/5) 特許公開2012-038568(平成24年2月23日) 出願2010-177459 (2010/8/6)
    • イオン源
      • 節原裕一,石川健治,堀勝,江部明憲,田昭治
  • 23. 特許5,888,674 (2016/2/26) 特開2013-179126 (2013/9/9) 特願2012-41355 (2012/2/28)
    • エッチング装置およびエッチング方法およびクリーニング装置
      • 堀勝, 石川健治, 田嶋聡美, 林俊雄
  • 24. 特許6,010,839 (2016/9/30) 特開2013-172657 (2013/9/5) 特願2012-37940 (2012/2/23)
    • 滅菌表示装置および滅菌装置および青果物表皮の殺菌方法
      • 堀勝,石川健治,伊藤昌文,太田貴之,橋爪博司
  • 25. 特許6,021,131 (2016/10/14) PCT/JP2014/001302, WO2014/141664 (2014/9/18) 特願2015-505280 (2014/3/7)
    • エッチング方法およびエッチング装置
      • 林俊雄, 田嶋聡美, 石川健治, 堀勝
  • 26. 特許6,028,970 (2016/10/28) 特開2014-45049 特願2012-185977 (2012/8/26)
    • 半導体装置の製造方法及びエッチング方法
      • 堀勝,石川健治、関根誠、小澤隆弘、加納浩之
  • 27. 特許第6,099,277号 (2017/3/3) 再公表WO2013/128905 (2013/9/6) 特願PCT/JP2013/001139 (2013/2/14) 特開2016-3184 (2016/1/12) 特願2014-122088(2014/6/13)
    • 抗腫瘍水溶液および抗癌剤とそれらの製造方法
      • 堀勝, 水野正明, 吉川史隆, 梶山広明, 内海史, 中村香江, 石川健治, 竹田圭吾, 田中宏昌, 加納浩之
  • 28. 特許6,304,645 (2018/3/16) 特開2015-76143 (2015/4/20) 特願2013-209748 (2013/10/6)
    • プラズマ発生装置
      • 堀勝、石川健治、加納浩之
  • 29. 特許第6,328,898号 (2018/4/27) 特開2015-62210 (2015/4/2) 特願2013-196296 (2013/9/22)
    • Ⅲ族窒化物半導体のエッチング方法およびⅢ族窒化物半導体装置の製造方法
      • 堀勝, 関根誠, 小田修, 石川健治
  • 30. 特許第6,381,111号 (2018/8/10) 特開2016-3184 (2016/1/22) 特願2014-122088 (2014/6/13)
    • 抗腫瘍水溶液および抗癌剤とそれらの製造方法
      • 堀勝, 水野正明, 吉川史隆, 梶山広明, 内海史, 中村香江, 石川健治, 竹田圭吾, 田中宏昌, 加納浩之
  • 31. 特許第6,406,811号 (2018/9/28) 特開2015-99866 (2015/5/28) 特願2013-239590 (2013/11/20)
    • Ⅲ族窒化物半導体装置の製造装置および製造方法ならびに半導体ウェハの製造方法
      • 堀勝, 近藤 博基, 小田 修, 石川 健治
  • 32. 特許6,516,482号 (2019/4/26) 特開2016-134611 (2016/7/25) 特願2015-10727 (2015/1/22)
    • III族窒化物半導体素子の製造装置および製造方法ならびに半導体ウエハの製造方法
      • 堀 勝, 小田 修, 関根 誠, 近藤 博基, 石川 健治
  • 33. 特許6,519,039号 (2019/5/29) 特開2015-218245 (2015/12/7) 特願2014-102455 (2014/5/16)
    • タンパク質膜の製造方法
      • 池原 譲、池原 早苗、榊田 創、秋元 義弘、堀 勝、石川 健治
  • 34. 特許6,736,004号 (2020/07/17) PCT/JP2015/006419 国際公開WO2016/103695 (2017.6.30) 特願2016-565922 (2015/12/23)
    • 抗癌剤および輸液とそれらの製造方法ならびに抗癌物質
      • 水野 正明、堀 勝、吉川 史隆、梶山 広明、内海 史、中村 香江、石川 健治、竹田 圭吾、田中 宏昌、加納 浩之
  • 35. 特許6,758,681号 (2020/9/4) WO2018/207667 (2018/11/15) 特願2019-517572 (2018/4/27)
    • 農作物の生産方法
      • 堀 勝, 橋爪 博司, 田中 宏昌, 水野 正明, 秋山 真一, 石川 健治
  • 36. 特許第6,822,669号 (2021/1/12) PCT/JP2016/078095 (2016/9/23) WO2017/110184 (2017/6/29) 優先 特願2015-252237 (2015/12/24)
    • 細胞捕捉フィルター
      • 木原 直人, 小口 亮平, 江口 創, 堀 勝, 田中 宏昌, 石川 健治, 馬場 嘉信, 湯川 博, 小野島 大介, 長谷 哲成, 久保山 大貴
  • 37. 特許第6,837,234号 (2021/2/21) 特開2018-111079 (2018/7/19) 特願2017-4109 (2017/1/13)
    • 脂質二重膜構造体とその製造方法
      • 堀 勝, 戸波卓也, 石川 健治, 近藤博基, 関根誠
  • 38. 特許第6,840,326号 (2021/2/19) 特開2016-150923 (2016/8/22) 特願2015-29974 (2015/2/18)
    • プラズマ殺菌水溶液とその製造方法および殺菌方法
      • 堀 勝, 石川 健治, 橋爪 博司, 伊藤 昌文, 太田 貴之

公開中・査定無し

  1. 特許(米国)公開US2009-0204252)
    • Substrate processing method and apparatus, method for manufacturing semiconductor device and storage medium
      • Hidenori Miyoshi, Kenji Ishikawa, Hideki Tateishi, Masakazu Hayashi, Nobuyuki Nishikawa
  2. 特許公開(中国)・101127295
    • Substrate processing method and apparatus, fabrication process of a semiconductor device
      • Hidenori Miyoshi, Kenji Ishikawa, Yukio Takigawa, Yoshihiro Nakata, and Hideki Tateishi
  3. 特許公開(台湾)・200741969
    • Substrate processing method and apparatus, fabrication process of a semiconductor device
      • Hidenori Miyoshi, Kenji Ishikawa, Yukio Takigawa, Yoshihiro Nakata, and Hideki Tateishi
  4. 特開2016-134610 (2016/7/25) 特願2015-10726 (2015/1/22)
    • III族窒化物半導体素子とその製造方法
      • 堀 勝, 小田 修, 関根 誠, 近藤 博基, 石川 健治
  5. 特開2016-165233 (2016/9/15) 特願2015-45829 (2015/3/9)
    • 細胞捕捉チップ及び細胞捕捉方法
      • 龍腰 健太郎, 小高 秀文, 小野島 大介, 石川 健治, 湯川 博, 田中 宏昌, 橋爪 博司, 馬場 嘉信, 堀 勝
  6. 特開2016-169164 (2016/9/23) 特願2015-047884 (2015/3/11)
    • 抗腫瘍水溶液とその製造方法
      • 堀勝, 倉家尚之, 水野正明, 吉川史隆, 梶山広明, 中村香江, 石川健治, 田中宏昌
  7. 特開2017-221887 (2017/12/21) 特願2016-117892 (2016/6./4)
    • 加工フィルム付き積層体の製造方法、加工フィルムの製造方法、および加工フィルム
      • 木原 直人, 堀 勝, 石川 健治
  8. 特開2018-33434 (2018/3/8) 特願2016-172258 (2016/9/2)
    • 細胞捕捉チップ、その製造方法および細胞捕捉方法
      • 龍腰 健太郎, 浜田 剛, 木原 直人, 諏訪 久美子, 小野島 大介, 石川 健治, 湯川 博, 久保山 大貴, 馬場 嘉信, 堀 勝
  9. 特開2018-41886 (2018/3/15) 特願2016-176198 (2016/9/9)
    • エッチング方法およびエッチング装置
      • 篠田 和典, 酒井 哲, 伊澤 勝, 三好 信哉, 小林 浩之, 高妻 豊, 堀 勝, 石川 健治
  10. 特開2018-57375 (2018/4/12) 特願2017-191454 (2017/9/29)
    • 幹細胞様細胞の調製方法
      • 片岡 洋祐, 大和 正典, 田村 泰久, 中野 真行, 堀 勝, 石川 健治, 池原 譲
  11. WO2018/066248 (2018/4/12) (WO2018066248-A1) 特願2018-543768 (2017/8/23) 優先 特願2016-199589 (2016/10/8)
    • シュウ酸の製造方法
    • Manufacture of oxalic acid for e.g. purifying vegetable oil, involves irradiating non-equilibrium atmospheric pressure plasma to aqueous solution comprising carbohydrate and calcium ions, and precipitating calcium oxalate dihydrate crystal
      • 石川 健治, 堀 勝, 倉家 尚之, 田中 宏昌
  12. WO2018/088559 (2018/5/17) (WO2018088559-A1) 特願2018-550298 (2017/11/13) 優先 特願2016-221212 (2016/11/14)
    • 成長促進水溶液とその製造装置並びに農作物および魚類の生産方法
    • Production method of agricultural products, involves growing process which mixes growth promotion aqueous solution in nurturing water which grows agricultural products
      • 橋爪 博司, 堀 勝, 石川 健治, 田中 宏昌, 秋山 真一, 水野 正明, 田 昭治, 山川 晃司, 中井 義浩
  13. 特開2018-141728 (2018/9/13) 特願2017-36997 (2017/2/28)
    • 生活習慣病の診断方法
      • 内田 浩二, 柴田 貴広, 石川 健治, リ オイ ルン ヘレナ, 松下 正, 菊地 良介, 鵜飼 順三
  14. 特開2018-144209 (2018/9/20) 特願2017-44399 (2017/3/8)
    • 絶縁基板に複数の貫通孔を形成する方法、および複数の貫通孔を有する絶縁基板の製造方法
      • 吉武 尚輝, 堀 勝, 石川 健治, 裏地 啓一郎, 龍腰 健太郎
  15. 特開2019-038913 (2019/3/14) 特願2017-160976 (2017/8/24)
    • 透明樹脂及び組立体
      • 堀勝, 石川 健治, 近藤 真悟, 青木孝司
  16. 特開2019-038914 (2019/3/14) 特願2017-160977 (2017/8/24)
    • 樹脂部材の表面改質方法及び組立体
      • 堀勝, 石川 健治, 近藤 真悟
  17. 特開2019-038915 (2019/3/14) 特願2017-160978 (2017/8/24)
    • 樹脂部材の表面改質方法及び組立体
      • 堀勝, 石川 健治, 近藤 真悟
  18. 特開2019-090671 (2019/6/13) 特願2017-219099 (2017/11/14)
    • 炎症の診断方法
      • 内田 浩二, 堀 勝, 松下 正, 柴田 貴広, 石川 健治, 菊地 良介
  19. 特開2019-163241 (2019/9/26) 特願2019-043192 (2019/3/8)
    • 抗癌剤および抗癌物質および輸液
      • 吉川 史隆, 堀 勝, 水野 正明, 田中 宏昌, 石川 健治
  20. 特開2019-210491 (2019/12/12) 特願2018-104735 (2018/5/31)
    • パルスパワー印加装置および液体の処理方法
      • 堀 勝, 清水 尚博, 石川 健治
  21. 特開2020-18277 (2020/2/6) 特願2018-147257 (2018/8/3)
    • イネの生産方法
      • 堀 勝, 橋爪 博司, 水野 正明, 北野 英己, 前島 正義, 松本 省吾, 石川 健治, 田中 宏昌, 湯浅 元気
  22. 特開2020-18278 (2020/2/6) 特願2018-147258 (2018/8/3)
    • イネの生産方法
      • 堀 勝, 橋爪 博司, 水野 正明, 北野 英己, 前島 正義, 松本 省吾, 石川 健治, 田中 宏昌, 湯浅 元気
  23. 特開2020-70243 (2020/5/7) 特願2018-203291 (2018/10/29)
    • 創傷治癒促進溶液の製造方法
      • 吉川 史隆, 堀 勝, 水野 正明, 豊國 伸哉, 亀井 讓, 蛯沢 克己, 梶山 広明, 芳川 修久, 中村 香江, 田中 宏昌, 石川 健治, 神藤 高広, 丹羽 陽大, 東田 明洋
  24. 特開2020-70244 (2020/5/7) 特願2018-203292 (2018/10/29)
    • 腹腔内洗浄溶液の製造方法
      • 吉川 史隆, 堀 勝, 水野 正明, 豊國 伸哉, 梶山 広明, 芳川 修久, 中村 香江, 田中 宏昌, 石川 健治, 神藤 高広, 丹羽 陽大, 東田 明洋
  25. 特開2020-125223 (2020/8/20) 特願2019-18092 (2019/2/4)
    • 窒化炭素膜の製造方法および窒化炭素被覆体の製造方法
      • 堀 勝, 石川 健治, 関根 誠, 堤 隆嘉, 福永 裕介, 近藤 博基
  26. 特開2020-132968 (2020/8/31) 特願2019-29844 (2019/2/21)
    • cBN膜の製造方法
      • 石川 健治, 堀 勝, 山川 晃司, 山本 博之, 田 昭治, 岩田 昌尚, 高島 成剛
  27. 特開2020-136584 (2020/8/31) 特願2019-30913 (2019/2/22)
    • エッチングガス及びそれを用いたエッチング方法
      • 西海 雅巳, 中村 新吾, 石川 健治, 堀 勝

Copyright Kenji Ishikawa (c) 2009-2020 Center for Low-temperature plasma sciences, Nagoya University.

Last-modified: 2021-04-19 (月) 13:52:39