SiO2Etch

博士論文著者名：石川健治

フルオロカーボンプラズマによるシリコン酸化膜エッチング表面反応解析に関する研究
東北大学博士 (工学) 甲第10868号 (2006年3月24日) 要旨(pdf)

1. はじめに,
- 序論,
2. 解析手法の基礎第2章,
- 赤外分光手法第2.7章(IR),
- 電子スピン共鳴手法第2.9章(ESR),
- X線光電子分光第2.10章(XPS),
- 実時間表面解析手法第2.11章(real time IR),
3. ビーム実験第3.1章(背景),
- イオンによるエッチング収率と表面変性第3.3章,
4. エッチング中その場観察：表面化学種（赤外分光）第4.1章,
- 未結合手（電子スピン共鳴）第4.3章,
5. 結論,
s. 付録

(English translation) Surface reactions during silicon oxide etching using fluorocarbon plasma
- Abstract,
- 1. Introduction
- 2. Materials and Methods
- 3. Plasma-surface interaction
- 4. In situ Real time Analysis of etching surface
- 5. Conclusion
- s. Supplementary materials

Last-modified: 2021-02-06 (土) 18:59:23