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  • 2. "Plasma Medical Science" (Academic Press, July 10, 2018) web, Amazonで購入
    • Chapter 2 Physical and Chemical Basis of Nonthermal Plasma DOI
    • Chapter 2.1 Introduction
    • Chapter 2.4 Optical diagnostics of atmospheric pressure plasma
    • Chapter 2.5 Electrical diagnostics
    • Chapter 2.6 Plasma chemistry of reactive species in gaseous phase
    • Chapter 2.8 Reaction of reactive species in cell culture medium
  • Chapter 5. "Plasma Diagnostics",

和書

  • 9. 「プラズマプロセス技術」プラズマ・核融合学会編 林康明編集委員 (森北出版, Jan 27, 2017) web, Amazonで購入
    • 第7章 計測技術とプロセス解析 7.2節 表面計測 分担執筆 原稿
  • 8. 『化学便覧 応用化学編 第7版』(丸善, Jan, 2014) web
    • 7.5.2 「ドライエッチング」 分担執筆
  • 7. 『精密加工と微細構造の形成技術 -材料・プロセスの最適化、トラブル対策-』 web (技術情報協会, July 31, 2013) 
    • 第2章第2節[2] ArFフォトレジストのプラズマエッチング技術 分担執筆 原稿
  • 6. 「ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成(表面技術協会編)」 web (コロナ社, May 20, 2013) Amazonで購入
    • 第3章 ドライプロセスによる薄膜形成と表面処理 3.4節「ドライエッチング」 分担執筆 原稿
  • 5. 「次世代ナノエレクトロニクスにおける絶縁超薄膜技術と膜・界面の物性科学」 web (エヌティエス出版, July 20, 2012) 
    • 第5編 絶縁成膜とエッチング 第5章 層間絶縁膜の成膜とエッチング 分担執筆 pp. 309-222 原稿
  • 4. 「レジストプロセスの最適化テクニック」 web (情報機構, September 30, 2011) 
    • 第6章 エッチング工程の手法およびレジスト・レジストパターンへの影響 分担執筆 原稿
  • 3. 「有機汚染物質/アウトガスの発生メカニズムとトラブル対策事例集」, (技術情報協会 2008年) 
    • 第5章 半導体プロセス洗浄方法とその効果 分担執筆 原稿
  • 2. 「エレクトロニクス洗浄技術」, (技術情報協会 2007年) 
    • 第13章 シリコン基板の洗浄 分担執筆 原稿
  • 1. 「半導体ドライ洗浄技術の開発現況と展望」, (工業技術会主催「次世代半導体洗浄における課題と解決技術」) 原稿

雑誌

工業材料 (2006年9月) 半導体プロセス洗浄方法
精密工学会 (2004年6月) 半導体表面のドライ清浄化

その他

平成15年度成果報告書 (ASET, 有機酸蒸気による酸化銅表面の清浄化) 原稿


Copyright Kenji Ishikawa (c) 2009-2020 Center for Low-temperature plasma sciences, Nagoya University.

Last-modified: 2020-11-29 (日) 14:34:57