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2009年以前の国内 会議の講演リスト

1992年 †

• 1. 藤村修三, 石川健治, 小川力:
  • “高感度赤外分光法によるシリコン酸化膜の観察（1）”
    • 1992 年春季第39 回応用物理学会関係連合講演会日本大学1992 年3 月28 日～31 日29p-ZF-6, p. 641.
• 2. 石川健治, 藤村修三, 森治久:
  • “高感度赤外分光法によるシリコン酸化膜の観察（2）”
    • 1992 年秋季第53 回応用物理学会関係連合講演会関西大学1992 年9 月16 日～19 日17p-ZQ-2, p. 636.

1993年 †

• 3. 小川洋輝, 石川健治, 藤村修三, 森治久, 鈴木雅史:
  • “水素終端シリコン表面の自然酸化過程”
    • 1993 年春季第40 回応用物理学会関係連合講演会青山学院大学1993 年3 月29 日～4 月1 日30a-ZW-6, p. 700.
• 4. 石川健治, 猪股カルロス, 小川洋輝, 藤村修三, 森治久:
  • “高感度赤外分光法によるシリコン酸化膜の観察（４）”
    • 1993 年春季第40 回応用物理学会関係連合講演会青山学院大学1993 年3 月29 日～4 月1 日30a-ZW-8, p.701.
• 5. 石川健治, 猪股カルロス, 小川洋輝, 藤村修三, 森治久:
  • “高感度赤外分光法によるシリコン酸化膜の観察（３）”
    • 1993 年春季第40 回応用物理学会関係連合講演会青山学院大学1993 年3 月29 日～4 月1 日30a-ZW-7, p. 701.

• 6. 藤村修三, 小川洋輝, 石川健治, 猪股カルロス, 森治久:
  • “FT-IR-ATR, FT-IR-RASを用いたSi 自然酸化膜成長過程の観察”
    • 信学技報SDM 93-7, (1993), p. 43.
• 7. 石川健治, 小川洋輝, 猪股カルロス, 藤村修三:
  • “赤外反射吸収(FT-IR-RAS) 法によるシリコン酸化膜の観察”
    • 第44 回半導体・集積回路技術シンポジウム東京1993年6 月17 日～18 日, p.157.
• 8. 小川洋輝, 石川健治, 猪股カルロス, 藤村修三, 森治久, 鈴木雅史:
  • “赤外反射吸収測定法によるシリコン自然酸化膜の構造解析”
    • 1993 年秋季第54 回応用物理学会学術講演会北海道大学1993 年9 月27 日～30 日29p-ZD-16, p.764.
• 9. 藤村修三, 小川洋輝, 猪股カルロス, 山崎健, 鈴木美紀, 早見由香, 石川健治:
  • “表面洗浄と酸化膜構造”
    • セミコンSEMI テクノロジーシンポジウム93, 幕張1993 年12 月1 日～３日, p. 479.

1994年 †

• 10. 小川洋輝, 石川健治, 鈴木美紀, 早見由香, 藤村修三, 森治久:
  • “純水希釈HF 処理後のシリコン表面の溶存酸素量依存性”
    • 1994 年春季第41 回応用物理学会関係連合講演会明治大学1994 年3 月28 日～31 日29p-ZQ-3, p. 707.
• 11. 石川健治, 小川洋輝, 猪股カルロス, 藤村修三, 森治久:
  • “赤外反射吸収分光法によるシリコン酸化膜の観察（５）”
    • 1994 年春季第41 回応用物理学会関係連合講演会明治大学1994 年3 月28 日～31 日30p-ZQ-8, p. 771.

• 12. 藤村修三, 石川健治, 小川洋輝:
  • “FT-IR-RAS によるSi 酸化膜の構造解析”
    • 第22回UCT シンポジウム, 東京1994 年8 月29 日31 日p. 297.
• 13. 猪股カルロス, 山崎健, 石川健治, 小川洋輝, 藤村修三, 森治久:
  • “赤外反射吸収測定法による化学酸化膜構造への洗浄プロセス順序の影響評価”
    • 1994 年秋季第55 回応用物理学会学術講演会名城大学1994 年9 月19 日～22 日21a-ZB-8, p. 703.
• 14. 藤村修三, 石川健治, 小川洋輝:
  • “FT-IR-RAS を用いたSi/SiO2 界面構造の解析”
    • 第23 回UCT シンポジウム, 東京1994 年11 月16 日～18 日p. 211.

1995年 †

• 15. 石川健治, 小川洋輝, 押田澄子, 鈴木腕, 藤村修三:
  • “赤外反射吸収分光法によるシリコン酸化膜の観察（６）”
    • 1995 年春季第42 回応用物理学会関係連合講演会東海大学1995 年3 月28 日～31 日29p-PA-17, p. 778.
• 16. 押田澄子, 石川健治, 鈴木腕, 山崎健, 藤村修三, 森治久:
  • “シリコン酸化膜構造の熱処理条件依存性（１）”
    • 1995 年春季第42 回応用物理学会関係連合講演会東海大学1995 年3 月28 日～31 日29p-PA-18, p. 778.
• 17. 久保田和宏, 小川洋輝, 小田島貴信, 石川健治, 川崎雅嗣, 坂上弘之, 藤村修三, 堀池靖浩:
  • “F/Si 反応のin-situ RAS/XPS 観察”
    • 1995 年春季第42 回応用物理学会関係連合講演会東海大学1995 年3 月28 日～31 日30p-N-6, p. 608.

• 18. 押田澄子, 石川健治, 鈴木腕, 藤村修三:
  • “シリコン酸化膜構造の熱処理条件依存性（2）”
    • 1995 年秋季第56 回応用物理学会学術講演会金沢工科大学1995 年8 月26日～29 日27a-ZV-4, p. 678.

1996年 †

• 19. 石川健治, 小川洋輝, 押田澄子, 鈴木腕, 藤村修三:
  • “赤外分光法によるSi-SiO2 界面の評価”
    • 薄膜表面分科会研究報告, 極薄シリコン酸化膜の形成・評価・信頼性(第一回), 早稲田1996 年1 月12 日, p. 89.
• 20. 石川健治, 内山雄司, 押田澄子, 小川洋輝, 藤村修三:
  • “赤外反射吸収分光法によるシリコン酸化膜の観察（７）”
    • 1996 年春季第43 回応用物理学会関係連合講演会東洋大学1996 年3 月26 日～29 日26a-PB-22, p. 683.
• 21. 小川洋輝, 石川健治, 鈴木美紀, 早見由香, 藤村修三:
  • “塩酸溶液処理後の水素終端シリコン表面の状態”
    • 1996 年春季第43 回応用物理学会関係連合講演会東洋大学 1996 年3 月26 日～29 日27a-F-8, p. 697.
• 22. 内山雄司, 石川健治, 押田澄子, 藤村修三:
  • “シリコン酸化膜中のトラップ生成とアニール温度依存性”
    • 1996 年春季第43 回応用物理学会関係連合講演会東洋大学 1996 年3 月26 日～29 日28p-N-13, p. 780.

• 23. 小川洋輝, 早見由香, 鈴木美紀, 石川健治, 藤村修三:
  • “低溶存酸素純水希釈HF-HCl溶液処理後の水素終端シリコン表面”
    • 1996 年秋季第57 回応用物理学会学術講演会九州産業大学1996 年9 月7 日～10 日9p-L-4, p. 703.

1997年 †

• 24. 石川健治, 内山雄司, 小川洋輝, 藤村修三:
  • “熱酸化膜構造の赤外分光による評価”
    • 薄膜表面分科会研究報告, 極薄シリコン酸化膜の形成・評価・信頼性(第二回) , 埼玉1997 年1 月10 日～11 日, p. 85.

1998年 †

• 25. 石川健治, 小川洋輝, 藤村修三:
  • “熱酸化膜の遠赤外分析”
    • 薄膜表面分科会研究報告,極薄シリコン酸化膜の形成・評価・信頼性(第三回), 御殿場1998 年1 月23 日～24日p. 127.
• 26. 石川健治, 小川洋輝, 藤村修三:
  • “遠赤外分光によるシリコン熱酸化膜の観察”
    • 1998年春季第45 回応用物理学会関係連合講演会東京工科大学1998 年3 月28 日～31日29a-PB-14, p. 860.

• 27. 棚橋徹, 石川健治, 鈴木美紀, 鈴木浩助, 小山堅二:
  • “水素/水プラズマダンフロー処理をもちいたコンタクトホール底面の自然酸化膜除去”
    • 1998 年秋季第59 回応用物理学会関係連合講演会広島大学1998 年9 月15 日～18 日16a-ZD-1, p. 678.
• 28. 石川健治, 鈴木美紀, 棚橋徹, 鈴木浩助, 岡村茂:
  • “水素ダウンフロー処理によるコンタクトホール洗浄”
    • 信学技報SDM 98-132, (1998), p. 63.

1999年 †

• 29. 石川健治, 岡村茂:
  • “プラズマダウンフロー形成シリコン酸化膜の赤外分光研究”
    • 薄膜表面分科会研究報告, 極薄シリコン酸化膜の形成・評価・信頼性(第四回), 御殿場1999 年1 月22 日～23 日, p. 179.
• 30. 石川健治, 岡村茂:
  • “プラズマダウンフロー形成シリコン酸化膜の赤外分光研究”
    • 1999 年春季第46 回応用物理学会関係連合講演会東京理科大学1999 年3 月28 日～31 日30p-ZT17, p. 859.

2000年 ASET †

• 31. 石川健治, 関根誠:
  • “シリコン酸化膜エッチングのその場時間分解赤外分光研究”
    • 第47 回応用物理学関係連合講演会, 青山学院大学2000 年3 月28 日～31 日 28a-ZC-11, p. 743.
• 32. 小林正治, 石川健治, 沖川満, 関根誠, 山崎聡, 安田哲二, 磯谷順一:
  • “エッチング・プラズマ曝露試料の電子スピン共鳴分光（ESR）法による観察”
    • 第47 回応用物理学関係連合講演会, 青山学院大学2000 年3 月28 日～31 日28a-ZC-10, p. 743.

• 33. 石川健治, 小林正治, 沖川満, 関根誠, 山崎聡, 安田哲二, 磯谷順一:
  • “エッチング・プラズマ曝露試料の真空搬送電子スピン共鳴分光（in-vacuo ESR）法による観察”
    • 第61 回応用物理学会学術講演会, 北海道工業大学2000 年9 月3 日～7 日6a-ZF-10, p.646.
• 34. 石川健治, 関根誠:
  • “シリコン酸化膜エッチングのその場時間分解赤外分光研究（2）”
    • 第61 回応用物理学会学術講演会, 北海道工業大学2000 年9 月3 日～7 日 6a-ZF-9, p. 646.
• 35. 小澤信夫, 辰巳哲也, 石川健治, 栗原一彰, 関根誠:
  • “高選択比酸化膜エッチングにおける表面反応層の解析”
    • 第61 回応用物理学会学術講演会, 北海道工業大学2000年9 月3 日～7 日6a-ZF-8, p. 646.
• 36. Kenji Ishikawa, Shoji Kobayashi, Mitsuru Okigawa, Makoto Sekine, Satoshi Yamasaki, Tetsuji Yasuda, and Junichi Isoya:
  • “In-vacuo ESR observation of Si etching”
    • JRCAT Symposium, (Tokyo, November 7, 2000), E20, p. 211.

2001年 ASET †

• 37. Kenji Ishikawa, and Makoto Sekine :
  • “In-situ Time-resolved Infrared Spectroscopic Study of Silicon Oxide Etching using Fluorocarbon Plasma”
    • プラズマ科学シンポジウム(PSS 2001)/第18 回プラズマプロセシング研究会(SPP 18), 京都2001 年1 月24 日～26 日, P2-95, p. 467.
• 38. 石川健治, 小林正治, 沖川満, 関根誠, 山崎聡, 安田哲二, 磯谷順一:
  • “エッチング・プラズマ曝露試料の真空搬送電子スピン共鳴分光（in-vacuo ESR）法による観察2”
    • 第48 回応用物理学関係連合講演会, 明治大学2001 年3 月28 日～31 日31a-F-4, p. 779.
• 39. 石川健治, 林重徳, 関根誠:
  • “シリコン酸化膜エッチングのその場時間分解赤外分光研究（3）”
    • 第48 回応用物理学関係連合講演会, 明治大学2001 年3 月28 日～31日31a-F-6, p. 779.
• 40. 林重徳, 石川健治, 関根誠:
  • “酸化膜エッチングプラズマにおけるフルオロカーボンラジカルの平面レーザ誘起蛍光時間分解計測”
    • 第48 回応用物理学関係連合講演会, 明治大学2001 年3 月28 日～31 日31a-F-5, p. 779.

• 41. 石川健治, 沖川満, 関根誠, 中村守孝, 山崎聡, 安田哲二, 磯谷順一:
  • “エッチング・プラズマ曝露試料の真空搬送電子スピン共鳴分光（in-vacuo ESR）法による観察（３）”
    • 第62 回応用物理学会学術講演会, 愛知工業大学2001 年9 月13 日～17 日 13p-D-5, p. 570.
• 42. Kenji Ishikawa, Mitsuru Okigawa, Makoto Sekine, Moritaka Nakamura, Satoshi Yamasaki, Tetsuji Yasuda, and Junichi Isoya :
  • “Dangling Bond Observation during Plasma Etching Processes Using In-vacuo Electron-Spin-Resonance Technique”
    • JRCAT Symposium, (Tokyo, December 11-12, 2001), F44, p. 213.

2002年 ASET †

• 43. 中村守孝, 石川健治, 唐橋一浩, 坪井秀夫, 山岡義和, 栗原一彰, 沖川満, 関根誠, 山崎聡, 安田哲二, 磯谷順一:
  • “SiO2 ドライエッチングの表面反応解析”
    • シリコン酸化膜の評価・信頼性（第７回）, 熱川ハイツ2002 年1 月25 日～26 日p. 225.
• 44. 石川健治, 沖川満, 関根誠, 中村守孝, 山崎聡, 安田哲二, 磯谷順一:
  • “in-vacuo ESRによるフルオロカーボンフィルムの解析”
    • 学術振興会プラズマ材料科学第153 委員会研究会, 弘済会館2002 年1 月29 日
• 45. 石川健治, 林重徳, 唐橋一浩, 坪井秀夫, 関根誠, 中村守孝:
  • “シリコン酸化膜エッチングのその場時間分解赤外分光研究（４）”
    • 第49 回応用物理学関係連合講演会, 東海大学2002 年3 月27 日～30 日29p-ZE-2, p. 750.
• 46. 坪井秀夫, 唐橋一浩, 石川健治, 山岡義和, 栗原一彰, 関根誠, 中村守孝:
  • “CFx（x=1-3）イオンビーム照射によるSiO2 エッチング反応の評価（2）-エッチングイールドの測定-”
    • 第49 回応用物理学関係連合講演会, 東海大学2002 年3 月27 日～30 日 29p-ZE-10, p. 749.

• 47. 石川健治, 柳下皓男, 中村守孝:
  • “有機酸蒸気による銅表面処理の検討”
    • 第63 回応用物理学会学術講演会, 新潟大学2002 年9 月24 日～27 日25a-M-9, p.750
• 48. 石川健治, 唐橋一浩, 梁井健一, 栗原一彰, 中村守孝:
  • “質量分離イオンビーム照射実験によるSiO2 エッチング反応解析-a-C:F 膜堆積挙動-”
    • 第63 回応用物理学会学術講演会, 新潟大学2002 年9 月24 日～27 日25p-Q-4, p. 662.
• 49. 唐橋一浩, 梁井健一, 石川健治, 中村守孝:
  • “CFx(x=1-3) イオンビーム照射によるSiO2 エッチング反応の評価(3)-イオンエネルギー依存性-”
    • 第63 回応用物理学会学術講演会, 新潟大学2002 年9 月24 日～27 日25p-Q-3, p. 662.
• 50. 梁井健一, 唐橋一浩, 石川健治, 中村守孝:
  • “CF x + (x=1-3) 質量分離イオンビーム照射によるSi3N4 エッチング表面反応の評価”
    • 第63 回応用物理学会学術講演会, 新潟大学2002 年9 月24 日～27 日25p-Q-6, p. 663.
• 51. 柳下皓男, 石川健治, 中村守孝:
  • “Cu 膜表面の有機酸処理”
    • 日本化学会第82 秋季年会, 大阪大学2002 年9 月25 日～28 日4C1-20, p.153.

2003年 ASET †

• 52. 石川健治, 柳下皓男, 中村守孝:
  • “有機酸蒸気による銅表面処理の検討（その2）”
    • 第50 回応用物理学関係連合講演会, 神奈川大学2003 年3 月27 日～31 日28p-ZG-7, p.909.
• 53. 柳下皓男, 石川健治, 中村守孝:
  • “有機酸蒸気による銅表面処理の検討（その3）”
    • 第50 回応用物理学関係連合講演会, 神奈川大学2003 年3 月27 日～31 日28p-ZG-8,p.909.
• 54. 梁井健一, 唐橋一浩, 石川健治, 中村守孝:
  • “斜め入射CFx+ (x=1-3) 質量分離イオンビームによるSiO2 エッチング表面反応の評価”
    • 第50 回応用物理学関係連合講演会, 神奈川大学2003 年3 月27 日～31 日29p-YG-3, p.804.

• 55. 梁井健一, 唐橋一浩, 石川健治, 中村守孝:
  • “斜め照射CF+x (x=1-3) 質量分離イオンビームによるSi3N4/SiO2 エッチング表面反応の評価(2)”
    • 第64 回応用物理学会学術講演会, 福岡大学2003 年8 月30 日～9 月2 日31p-ZK-15, p.675.
• 56. 柳下皓男, 石川健治, 中村守孝:
  • “有機酸蒸気による銅表面処理の検討（その4）”
    • 第64 回応用物理学会学術講演会, 福岡大学2003 年8 月30 日～9 月2 日1p-YB-7,　p.758.
• 57. 柳下皓男, 石川健治, 中村守孝:
  • “有機酸蒸気による銅表面清浄化検討”
    • 第65 回半導体・集積回路シンポジウム, 機械振興会館ホール2003 年12 月18 日～19 日,　p.54.

2004年 ASET †

• 58. 梁井健一, 唐橋一浩, 石川健治, 中村守孝:
  • “質量分離イオンビーム照射によるSiO2膜エッチングの入射角度依存性”
    • 第21 回プラズマプロセシング研究会(SPP 21),　北海道大学, 2004 年1 月28 日～30 日, A3-05.
• 59. 柳下皓男, 菊地吉男, 石川健治, 中村守孝:
  • “有機酸蒸気による銅表面処理の検討（5）”
    • 第51 回応用物理学関係連合講演会, 東京工科大学2004 年3 月28 日～31 日　28p-P3-11, p.917.
• 60. 林雅一, 石川健治, 柳下皓男:
  • “有機酸蒸気を用いた金属表面処理の検討”
    • 第51 回応用物理学関係連合講演会, 東京工科大学2004 年3 月28 日～31 日28p-P5-19, p.928.

• 61. 石川健治, 山崎雄一, 山崎聡, 尾崎卓哉, 野田周一, 石川寧, 寒川誠二:
  • “真空搬送電子スピン共鳴法によるプラズマプロセス後のLow-k 膜の評価”
    • 第65 回応用物理学会学術講演会, 東北学院大学2004 年9 月1 日～4 日2a-G-2, p.860.
• 62. 林雅一, 石川健治, 西川伸之, 中石雅文:
  • “酢酸蒸気によるCo/Si 表面処理の検討”
    • 第65 回応用物理学会学術講演会, 東北学院大学2004 年9 月1 日～4 日3p-B-5,　p.669.
• 63. 山崎雄一, 石川健治, 水落憲和, 山崎聡:
  • “電子スピン共鳴法による水素プラズマ照射におけるダイアモンド損傷の評価”
    • 第65 回応用物理学会学術講演会, 東北学院大学2004 年9 月1 日～4 日3p-ZB-11, p.510.
• 64. 山崎聡, 山崎雄一, 水落憲和, 石川健治, 寒川誠二:
  • “ダイアモンド室温水素処理に伴う欠陥生成”
    • 第18 回ダイアモンドシンポジウム, つくば産総研, 2004 年11 月29日～30 日
• 65. 山崎雄一, 水落憲和, 齋藤丈靖, 石川健治, 寒川誠二, 山崎聡:
  • “電子スピン共鳴法によるICP エッチングにおけるダイアモンド表面損傷の評価”
    • 第18 回ダイアモンドシンポジウム, つくば産総研, 2004 年11 月29 日～30 日

2005年 †

• 66. 石川健治, 山崎雄一, 山崎聡, 野田周一, 石川寧, 寒川誠二:
  • “エッチング・プラズマ曝露試料の真空搬送電子スピン共鳴分光（in-vacuo ESR）法による観察４”
    • 第52回応用物理学関係連合講演会, 埼玉大学2005 年3 月29 日～4 月1 日29aZE-12,　p. 1080.
• 67. 山崎雄一, 石川健治, 水落憲和, 山崎聡:
  • “室温水素プラズマ照射によるダングリングボンド損傷の評価”
    • 第52 回応用物理学関係連合講演会, 埼玉大学2005 年3 月29 日～4 月1 日30p-Q-10, p.687.

• 68. 須崎明, 石川健治, 三好秀典, 立石秀樹, 嶺潤子, 嶋昇平, 福永由紀夫, 福永明, 辻村学：
  • “Cu 表面の自然酸化膜成長と蟻酸ガスによる酸化膜の除去”
    • 第66 回応用物理学会学術講演会, 徳島大学2005 年9 月7 日～11 日8p-A-5, p. 705.
• 69. 西川伸之, 中平順也, 石川健治, 林雅一, アクバルアーデ, 中田義弘, 水島賢子, 工藤寛, 倉橋輝雄, 三島康由, 瀧川幸雄, 中石雅文, 渡部潔：
  • “ギ酸を用いた低温ドライクリーニング技術のCu/Low-k 配線プロセスへの応用”
    • 第66 回応用物理学会学術講演会, 徳島大学2005 年9 月7 日～11 日8p-A-7, p. 706.
• 70. 山崎雄一, 石川健治, 寒川誠二, 水落憲和, 李成奇, 牧野俊晴, 山崎聡：
  • “低エネルギー酸素プラズマ処理によるダイヤモンド損傷の評価”
    • 第66 回応用物理学会学術講演会, 徳島大学2005 年9 月7 日～11 日7a-P1-48, p. 499.

2006年 †

• 71. 石川健治, 山崎雄一, 山崎聡, 森本幸裕, 陣内佛霖, 石川寧, 浜口智志, 寒川誠二:
  • “エッチング・プラズマ曝露試料の真空搬送電子スピン共鳴分光（in-vacuo ESR）法による観察5”
    • 第53 回応用物理学関係連合講演会, 武蔵工業大学2006 年3 月22日～25 日.
• 72. 石川健治，山崎聡，寒川誠二：
  • (招待講演)“表面反応におけるプロセス誘起欠陥の影響”
    • フロンティアプロセス2006, つくば産総研，2006年8月25日
• 73. 石川健治，三好秀典，立石秀樹，林雅一：
  • “Cu表面のドライクリーニングの検討　供給蒸気組成と流量制御”
    • 第67 回応用物理学会学術講演会, 立命館大学2006 年8 月29 日～9月1 日31a-ZN-7
• 74. 林雅一，石川健治，三好秀典，立石秀樹：
  • “Cu表面のドライクリーニングの検討”
    • 第67 回応用物理学会学術講演会, 立命館大学2006 年8 月29 日～9月1 日31a-ZN-8

2008年 †

• 75. 石川健治、工藤寛、中石雅文、筑根敦弘、尾崎史朗，中田義弘、秋山深一、水島賢子、林雅一、A. A. Akbar，河野隆宏、岩田浩、射場義久、大場隆之、二木俊郎，中村友二、杉井寿博：
  • “有機酸ドライクリーニングによるコンタクトビア形成による歩留まり・信頼性の向上”
    • 第７２回半導体・集積回路技術シンポジウム，東京農工大学2008年7月10日～11日

2009年 †

• 76. 木野徳重、竹内和歌奈、石川健治、近藤博基、加納裕之、関根誠、堀勝：
  • “a:C-Hを用いたカーボン系太陽電池作製に関する研究”
    • 第3回プラズマエレクトロニクスインキュベーションホール、P-18、国立中央青少年交流の家、静岡県御殿場市、2009年9月16日～18日

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